三星电子1c nm DRAM内存良率已突破量产盈亏平衡点

来源:半导纵横发布时间:2026-01-19 15:31
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三星电子的第六代 10 纳米级 DRAM 内存制程工艺目前的良率已提升至约 60%,突破了量产盈亏平衡点。

此举被视为一项重要里程碑,因为三星电子 HBM4 内存便基于 1c nm DRAM。DRAM Die 的更高良率有助于三星在 HBM4 上获得更多的利润,进一步提升业绩表现。

三星电子在 1c DRAM 上一改近期以良率优先、谨慎推动量产进程的策略,回到了快速进入量产以更积极回应市场动态的传统模式,这有利于从英伟达等重要客户手中赢得订单。

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