国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）九年回顾

IWAPS诞生于2017年，是中国集成电路产业高速发展对先进芯片高端光刻技术自主创新迫切需求的直接响应。其核心使命是填补国内该领域全球化专业交流平台的空白，促进国内光刻技术快速追赶国际先进同行，孵化国内光刻技术生态，助力国内先进芯片制造实现跨越式发展。IWAPS致力于打造国际化、高层次的技术交流平台，通过汇聚全球顶尖学者、头部企业及产业链代表，为想要了解更多国际半导体业界动态的国内国际研究者和工程师提供更多机会。会议持续推动计算光刻、DTCO、EUV、工艺、量测等前沿技术落地中国本土，加速国产设备与材料的验证迭代，并为行业培育关键技术人才。作为目前国内规模最大、国际化程度最高的光刻技术峰会，IWAPS已成为连接中国与世界光刻创新体系不可或缺的桥梁。

IWAPS的产业价值与学术价值：技术交流、创新生态建设与人才培养

IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。作为国际高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。会议报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。

作为中国连接全球光刻产业链的重要枢纽，IWAPS会议为设备、材料、设计三方的企业提供了高效的交流平台，得到了四十多家国内外顶尖集成电路企业的支持。其中，国际头部企业赞助商占比达53%，国内主要及新兴集成电路企业占比47%，覆盖从光刻机、量测到光刻胶材料的全链条生态。荷兰ASML、德国Siemens、ZEISS、日本Fujifilm等连续几届参会并提供支持。通过IWAPS平台，全芯智造、华芯程、东方晶源等国内新兴半导体企业得到了广泛的关注，吸纳大量的国内外人才，为其快速成长提供重要助力。

图：历届IWAPS获得到的国内外企业支持

图：IWAPS上的企业展台

 IWAPS大会为集成电路产业主管部门、顶尖专家、龙头企业和行业组织等搭建了一个交流合作、协同创新的高端平台，共同分享前沿技术趋势，加强产业链深度合作，助力集成电路产业高质量发展。会议同时注重与会议举办地产业部门深度协同，在南京（第三届）、成都（第四届）、广东佛山（第五届）、浙江丽水（第七届）、广东深圳（第九届）等产业核心区构建区域性创新枢纽。每届会议都会联合当地政府主管部门（如浙江丽水经济开发区等）、龙头企业及行业组织（深圳市半导体与集成电路产业联盟等），精准激活区域产业生态。既为地方搭建汇集全球顶尖专家与产业链决策者的高端对话平台，促进光刻胶材料、曝光设备等前沿技术趋势的深度交流，更为当地集成电路企业的搭建起产学研协同网络，为当地吸引广大优秀集成电路人才。

图：浙江丽水经济开发区代表进行宣传介绍（左）和深圳市半导体与集成电路产业联盟同期举办湾芯展（右）

在瞬息万变且日益复杂的全球环境中，学术交流对技术创新至关重要。IWAPS为广大集成电路行业从业者和学者搭建一个稳定且高效平台，精准链接产业界与学术界，共同赋能技术进步与产业发展。自首届以来，IWAPS会议持续发展，从最初的200多人的中型国际论坛到如今参会人数超过700多人的大型学术国际峰会，会议上分享的报告也超百篇，受到国内外的从业者、专家学者和学生的热烈欢迎。一方面，会议邀请来自国际龙头企业（ASML、Siemens和Synopsys等）的专家、国际知名研究机构和高校（Paul Scherrer Institute, PSI、香港中文大学、复旦大学等）学者进行报告，分享国际前沿光刻技术。另一方面，会议为青年学者提供了Oral和Poster两种方式，来展示其研究成果。近年来，IWAPS会议论文持续被IEEE/SPIE收录，吸引了更多青年学者关注，激起了青年学者的科研热情。为鼓励青年学者做出的贡献，大会特别设置“Best Poster”奖项，经各位与会专家学者投票产生，由组委会代表颁发。通过IWAPS交流平台，每年有数百名青年学者获得直面国际知名专家、集成电路企业总裁的机会并进行现场交流。

图：IWAPS上分享的报告持续增长

图：组委会代表为获奖学者颁布奖项（第八届、第九届）

作为IWAPS大会的灵魂人物，韦亚一教授是中国科学院大学特聘教授，中国科学院微电子研究所研究员，博士生导师，长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，拥有丰富集成电路制造从业经验 以及国际前沿的学术水平。凭借丰富的产业化经验，早在2010年左右，韦亚一教授就深刻意识到光刻技术对于半导体制造业举足轻重的作用，以及国内相关产业配套落后、人才缺口巨大的现状。为了填补国内该领域全球化专业交流平台的空白，促进国内集成电路产业的发展和人才培养，在各位上级领导的支持下，韦亚一教授带领科研团队于2017年举办首届国际先进光刻技术研讨会，利用其在国内外光刻界的影响力广邀国内外学术界产业界的大咖参会并做报告。首届IWAPS会议的成功举办，引起了国内集成电路行业的重大反响，同时也给整个团队带来了巨大信心，坚定了将IWAPS会议打造为系列年会的决心。

但随后的中美贸易战开打，欧美为首的西方国家对中国集成电路行业的制裁打压，在中国半导体产业的上空笼罩了一片乌云。西方国家的技术封锁，国际合作中断，EUV光刻机等先进芯片制造设备的禁运，导致国内集成电路制造企业发展举步维艰。面对关键设备遭到封锁的发展困境，韦亚一教授一针见血地指出先进光刻技术是打破国内当前发展困境的关键所在，同时也是IWAPS会议的核心议题，因此十分坚定地带领着团队成员，克服种种困难，坚持举办了第三、第四届IWAPS会议，为中国半导体产业的发展燃起了一缕星星之火。即便面对疫情，IWAPS会议也依然没有中断。韦亚一教授团队集思广益，采用线下交流、线上互动的方式，灵活处理因疫情管控无法参会的问题，成功在广东佛山举办了第五届会议，在北京线上举办了第六次会议。IWAPS会议的持续举办给国内集成电路行业的发展注入了动力，从学术角度为国内半导体企业打破封锁，实现芯片制造光刻技术的国产化自主化提供了解决方案。同时，也见证了国内半导体产业从艰难前行到如今星火燎原的蓬勃发展的态势。

图：韦亚一教授主持IWAPS会议，首届（左上）、第六届（右上）、第九届（左下）和第九届IWAPS会议现场提问

近年来，第七至九届IWAPS的火热无疑彰显了国内半导体行业的活力，也表明大会成功实现了通过国际前沿的学术交流促进国内产业发展的战略目标。尤其是自2024年起，韦亚一教授代表IWAPS组委会与SPIE签订合作办会的协议，会议成功列入SPIE会议名录。SPIE是国际主流光刻技术平台，是国际前沿光刻技术发展的风向标。与SPIE合作办会，标志着IWAPS会议的发展登上了一个新台阶。

如今，IWAPS会议已经得到了国内外光刻领域专家的广泛认可，为国内先进光刻技术的发展树立起了标杆。其中，韦亚一教授起到了至关重要的作用。一方面，作为IWAPS会议的掌舵者，韦亚一教授一开始就确定了打造国际先进光刻技术交流平台的战略目标，同时担任起大会组委会的秘书长，带领团队保障九届会议的顺利举办。另一方面，凭借SPIE会士、中国光学学会会士的身份，韦亚一教授承担起中美光刻领域专家沟通交流的桥梁，广泛邀请知名专家和学者参会。更重要的是，在面临复杂多变的国际局势时，韦亚一教授坚定信念，带领团队抱着咬定青山不放松的气魄，坚持办好每一届IWAPS会议，并朝着国际知名学术会议方向发展。