订单破亿，首批‘成都造’微米级光刻机下月初集中交付

近日，据成都双流经济开发区消息，作为成都市首家全自动光刻设备产业化公司，中特微（成都）电子科技有限公司的总装车间里，一批微米级接近式光刻机正进入最后的组装与调试环节。这批本土光刻设备将于11月初从双流集中发往全国，流向光芯片、显示半导体、LED等领域的客户产线。中特微相关负责人透露，公司今年整体订单金额已突破1亿元，目前处于客户排队等发货的状态。

从技术原理看，接近式光刻让掩模版与晶圆上的光刻胶不直接接触，可减少缺陷、降低掩模版损耗、提高成品率，但受衍射极限约束，分辨率存在天花板，主要适用于特征尺寸3微米以上的集成电路生产。在价格带上，接近式光刻机单价约在25万至30万美元，与动辄上亿欧元的EUV设备相去甚远，属于典型的"小而精"设备市场。

这一细分赛道长期由德国SUSS、日本DNK、奥地利EVG等海外厂商主导，国内同类设备此前多存在"实验室可演示、工厂难量产"的工程化短板。中特微选择了错位切入，没有扎进竞争白热化的EUV、DUV投影光刻主战场，而是锁定近紫外接近式光刻与LDW激光直写光刻细分市场，瞄准光显示、光芯片、先进封装等应用场景。海外巨头对这类定制化投入意愿相对薄弱，恰好为本土厂商留出了窗口。

中特微的技术底座带有鲜明的中科院系基因，其核心团队源自中国科学院重庆绿色智能技术研究院。成立不足五年的公司自主攻克了UV-LED平行光源、双视场显微对位、视觉伺服精密运动控制三大核心技术，并于2023年率先实现4英寸、6英寸产品的批量生产，成为国内唯一在LED领域实现光刻机批量出货、并打入8英寸MEMS与光通信高端量产产线的本土设备厂商。目前，其产品已供货国内数十家行业头部企业，在光显示细分市场的占有率约八成。

产能与产品线的延伸也在同步推进。今年2月，中特微总部正式落户双流的空港聚光光电产业园，建成总装车间与黄光无尘环境测试车间，持续深耕近紫外掩模光刻赛道。据企业透露，公司正推动产品升级换代与产能提升，预计明年产能达到300台，并同步展开面板封装激光直写光刻机的研发，一旦落地，将实现从晶圆级到面板级光刻机产品的全覆盖。

单点企业的突破背后，是一整套区域产业生态的支撑。空港聚光光电产业园是双流区首个由国资投资建设、招商、运营的特色产业园，聚焦光学材料、半导体装备、科学仪器等新质赛道，已聚集18家优质光电企业，其中国家级专精特新"小巨人"企业1家、省级专精特新企业4家、高新技术企业7家；空港科创集团还通过光电产业专项基金对中特微开展股权投资。宏观维度上，光刻设备仍是本土半导体设备链条上相对薄弱的环节，2025年国内晶圆厂设备采购本土化率约为35%，其中刻蚀、薄膜沉积设备已超40%，而光刻设备仅约18%，且多集中于成熟制程与封装设备；伴随新增晶圆产能设备采购本土化比例不低于50%等政策的落地，本土光刻装备的需求空间正在被打开。双流光电产业集群已入选省级中小企业特色产业集群，全区光电产业产值突破660亿元。

当然，这条错位突围之路也需冷静看待。接近式光刻细分市场规模有限，"小市场、高占有率"模式的成长天花板有待验证；一旦海外厂商加大定制化投入，或本土同业加速涌入，细分赛道竞争可能随之加剧。对成都而言，这一样本的核心价值不在于单一企业的订单数字，而在于跑通了"技术转化—量产验证—集群配套"的完整链路——在巨头无暇深耕的缝隙市场建立交付优势，再沿晶圆级到面板级的技术阶梯向上跃迁，为国内半导体装备由细分走向高端提供了一个可复制的观察窗口。