本期我们精选了5款 射频芯片 应用的相关产品或解决方案。如果您的企业也有相关内容待推广,欢迎入驻半导纵横“产品汇”,与更多行业伙伴共享技术成果,共拓市场机会。
以下五款产品,覆盖PA模组、射频开关/LNA、可重构L-PAMiD、TF-SAW滤波器/接收模组、硅基GaN射频PA
4.0×6.8mm封装内集成HB/MB/LB三个频段的PA和控制电路,一颗模组即可覆盖从800MHz低频到2.7GHz中高频的全部5G Sub-6GHz发射需求,大幅减少终端PCB上的PA数量。B41/n41 PC2功率等级意味着该模组可直接用于高功率5G终端,无需额外外挂PA。
核心规格:
功能:HB/MB/LB LTE/NR PC3,B41/n41 PC2
封装:LGA 4.0mm × 6.8mm × 0.73mm
工艺:GaAs HBT + CMOS控制器
通信制式:2G/3G/4G/5G NR Sub-6GHz
产品线:同系列涵盖FX5613Z(3.0×3.0mm)、FX5627UB/VB/ZB(4.0×6.8mm)、FX5603(Cat.1)、FX5613A(4G MMPA)等多款型号
典型应用: 5G智能手机、5G CPE/模组、4G Cat.1物联网终端、车载通信、卫星通信终端
0.4-0.5dB的插入损耗在2.7GHz以内与Skyworks、Qorvo同类产品处于同一水平,36dBm的P0.1dB意味着该开关可直接承受GSM终端的高功率发射信号而不产生非线性失真。2mm×2mm的QFN-14封装和无需外部隔直电容的设计,显著降低了终端PCB的占用面积和BOM成本。
核心规格:
电路结构:SP4T(单刀四掷)
频率范围:100MHz ~ 3GHz
插入损耗:0.4dB @0.1-1.0GHz,0.45dB @1.0-2.0GHz,0.5dB @2.0-2.7GHz(典型值)
隔离度:35dB @0.1-1.0GHz,28dB @1.0-2.0GHz,22dB @2.0-2.7GHz(典型值)
P0.1dB压缩点:36dBm
工作电压:2.5V ~ 3.0V
控制电压:1.0V ~ 3.0V(兼容1.8V GPIO)
封装:QFN-14,2.0mm × 2.0mm × 0.55mm
工作温度:-20°C ~ +85°C
特性:集成ESD保护,无需外部直流隔直电容(除非RF端口外加直流偏置)
典型应用: 2G/3G/4G/5G智能手机TRX切换、天线分集切换、频段选择开关、物联网模组、Wi-Fi路由器
慧智微的AgiPAM架构在SOI晶圆上集成数模混合控制电路,配合GaAs PA核心,通过软件配置即可实现通路复用和频段切换,将单颗模组对GaAs晶圆的使用面积从传统方案的1.8mm²降至0.7mm²,在保持射频性能的同时优化了成本。S55043-11将PA、双工器/滤波器、LNA、射频开关全部集成在6×7mm的封装内,一颗芯片即完成低频段(B5/8/12/13/17/20/26/28/71等)的全部收发功能。
核心规格:
代表型号:S55043-11(L-PAMiD,低频段)
2G:GSM850/900,DCS1800,PCS1900
3G/4G/5G:B5/8/26/28A/12/13/17/20/28B/71
封装:6.0mm × 7.0mm
S55055-11(L-PAMiD,低频段):6.0mm × 7.6mm
S55058-11(L-PAMiD,中高频段):覆盖B1/2/3/7/34/39/40/41等,6.5mm × 8.6mm
L-PAMiF发射模组(S55217系列):n77/78、B42/43/48,5.0mm × 3.0mm
L-FEM接收模组(S15722系列):n77/78,2.6mm × 2.8mm
5G PAM(S55643系列):覆盖B1~B71全频段,4.0mm × 6.8mm
典型应用: 5G/4G智能手机旗舰机型、折叠屏手机、5G CPE、物联网模组
星曜的TF-SAW B7双工器Tx插损<1.7dB、Rx插损<1.8dB、隔离度>60dB、TCF温漂系数-10ppm/°C,性能对标国际一线大厂。更值得关注的是其B1+B3+B66四工器——1.3×0.9mm的芯片尺寸是目前业界最小,在这个面积内集成4个滤波器并保持发射与接收通道之间>55dB的隔离度,且85°C高温下破坏功率达35dBm,打破了"越小越不耐功率"的行业困境。
核心规格(STR21230-21 DiFEM):
功能:分集接收模组(集成SOI射频开关 + 多频段TF-SAW/SAW滤波器)
支持频段:B1/66、B25、B3、B7、B8、B26、B28F、B34、B39、B40、B41F
CA载波聚合:B1+3+7、B1+3+41、B39+41、B40+41及任意LB+MHB组合
封装:3.7mm × 3.2mm
CA与non-CA插损恶化:0.5~0.8dB
AUX扩展:4× LB + 2× MHB AUX口,支持大功率
面积节约:较分立器件方案节约60%以上layout面积
LNA Bank STR3230-11:
工艺:65nm SOI
频段:LB(617-960MHz)、LMHB(1427-1518MHz/1805-2690MHz)、MHB(1805-2690MHz)
增益:>20dB
协议:MIPI RFFE 3.0
封装:2.9mm × 2.9mm
L-DiFEM STR31230-11/21:
集成LNA + 射频开关 + 多频段滤波器
封装:3.6mm × 3.5mm,较分立方案节约70%以上PCB面积
TF-SAW滤波器产品线:
Normal SAW:全频段TRx滤波器、双工器(B1/B5/B8/B39/B40/B41/Wi-Fi 2.4/GPS等)
TF-SAW:全频段TRx、双工器、四工器(B3/B2/B25/B28F/B8/B20/B7/B1+B3等)
BAW:高频宽带TRx(B40/n41/n78/n79/n79F/Wi-Fi 6E等)
代表性突破:B1+B3+B66四工器芯片尺寸1309(1.3×0.9mm),业界最小,兼容1612/1511封装;85°C破坏功率35dBm
典型应用: 5G/4G智能手机分集接收、主集接收、载波聚合、通信模组、可穿戴设备、车规级Wi-Fi
氮化镓(GaN)作为第三代半导体材料,功率密度是GaAs的数倍,效率更高、带宽更宽,但过去因工艺壁垒高、成本昂贵,仅用于基站、雷达、卫星载荷等高价值领域。国博电子的突破在于以硅基衬底(GaN-on-Si)替代传统碳化硅衬底(GaN-on-SiC),在保持GaN材料性能优势的同时大幅降低了衬底成本,并解决了硅基GaN外延层晶格缺陷比例高的材料难题,使其满足消费级终端的可靠性和成本要求。实际应用数据显示,在演唱会、高铁、地铁等拥堵场景下,硅基GaN PA的上下行综合速率较国外同类产品提升200%,延迟降低25%,整机功耗降低10%,且一颗GaN芯片可替代两颗GaAs芯片,为手机内部腾出更多空间。
核心规格:
材料体系:硅基氮化镓(GaN-on-Si),第三代半导体
应用场景:智能终端射频功率放大器(PA)
累计交付:超500万颗(截至2026年6月)
拥堵场景上下行综合速率提升:200%(与国外类似产品对比)
延迟降低:25%
终端功耗降低:10%
集成度:一颗GaN芯片可替代原有两颗GaAs芯片
功能支持:手机直连卫星
技术来源:中国电科55所,全链条自主可控(材料外延、芯片设计、工艺验证、封装测试、量产管控)
基站产品:三代半导体GaN射频模块功率覆盖5W~700W,应用于4G/5G/U6G基站
2025年营收:23.86亿元;射频芯片营收1.87亿元(同比+9.84%),毛利率30.16%
典型应用: 5G/5G-A/6G智能手机、手机直连卫星、商业航天终端、低空经济通信终端、毫米波通信、U6G基站
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