
GPU与其他大型AI芯片始终面临内存供给不足的困境。当前数据中心服务器采用12层DRAM垂直堆叠的高带宽内存方案。但存储厂商为提升容量与带宽,不断增加堆叠层数时,业内专家担忧这类高带宽内存(HBM)会因积热严重,最终过热失效。倘若芯片厂商选择将HBM堆叠在本身发热量大的处理器上方以提升带宽,而非放置在处理器侧边,散热危机将会愈发严峻。
全球工程师正攻关另一套技术方案:不再将DRAM裸片层层垂直堆叠,转而采用侧向并排堆叠的设计。业界希望通过该方案,把未来极易积热的超高堆叠内存,改造为散热性能优良的硅立方存储模组。
在上月举办的IEEE超大规模集成电路研讨会(IEEE VLSI Symposium)上,两支研究团队分别公布了两种侧向堆叠存储技术路线。韩国研究团队预测,名为V-Die的侧向堆叠存储方案,相比当下最先进的HBM4内存,数据处理速度可提升82%;日本研发团队则表示,其自研MOSAIC方案的存储容量可达HBM4的两倍,且芯片峰值温度仅小幅上升1℃左右。
现有HBM架构由多层DRAM硅裸片堆叠在基底裸片上构成。基底裸片负责为堆叠层供电,并协调裸片与处理器之间的数据交互。数据与电力依靠贯穿各层裸片的垂直互连通道——硅通孔(TSV)在堆叠层内传输;各层裸片之间、裸片与基底裸片之间,通过与硅通孔相连的微型焊球实现导通。
以英伟达B300这类典型AI加速器为例,芯片两侧各搭载8组12层堆叠HBM,单组存储容量36GB。所有HBM堆叠单元与GPU置于同一块基板,通过宽度2048微米的金属走线,跨越数毫米间距完成互连。这套HBM4架构每秒可在GPU与内存间传输2800GB数据。
但该方案的性能上限终将无法匹配未来需求。韩国蔚山国立科学技术院(UNIST)博士生Heesoo Yang在研讨会上表示:“AI模型规模正呈爆炸式增长,而内存容量与带宽的提升速度难以跟上,形成了严重的性能瓶颈。”
HBM最亟待解决的难题是发热问题。填充在裸片间隙的介质导热系数,仅为硅基板的百分之一左右,热量难以向上传导至处理器封装的散热装置进行散出。业界虽存在部分缓解方案,但随着厂商不断增加堆叠层数扩充容量,积热问题只会持续恶化。
蔚山国立科学技术院Jimin Kwon实验室的Yang还指出,另一项远期隐患在于:堆叠层数提升后,存储容量与带宽之间会出现难以调和的取舍矛盾。更高的堆叠层数需要布设更多硅通孔传输数据,会挤占存储单元的有效硅片面积。
上月,Jimin Kwon团队联合大田韩巴国立大学的Seongju Kim,推出了一套可解决HBM远期散热与容量矛盾的V-Die方案。该方案采用垂直排布DRAM裸片,并在裸片之间集成微流控冷却通道,可将芯片工作温度稳定控制在45℃,远低于常规HBM80℃以上的峰值温度。
Yang介绍,该方案的裸片结构经过重新设计:省去硅通孔(TSV)垂直互连结构,大幅释放硅片面积用于集成更多存储单元;同时每颗裸片独立配备输入输出(I/O)模块,不再需要基底裸片。整套I/O模块沿裸片底边排布,通过间隔20微米的互连通道与搭载GPU的硅基板相连。团队测算,该互连架构的通路数量是HBM4的4倍,内存读取延迟降低37%,代价是部分数据需要多传输数毫米才能抵达处理器。
研究团队针对搭载英伟达H100GPU的AI服务器,仿真测试了16层堆叠V-Die架构的性能。在运行GPT-3量级大语言模型负载时,同等存储容量下,V-Die系统每秒可生成540个文本token,而HBM4仅能输出296个;同时首token生成延迟下降32%,缩短约24毫秒。
目前用于验证热性能与电气特性的原型芯片正在研发中。
这类三维DRAM方案也被称作立体DRAM,制造流程为先将裸片垂直堆叠,再把整套堆叠结构横向放平,实现与基板或其他芯片的互连。比利时微电子研究中心(Imec)项目主管James Myers表示,该工艺会带来复杂的集成难题。Myers团队此前已攻克GPU上堆叠DRAM的散热问题,如今正研究垂直裸片在该场景下的落地应用。他提到:“裸片厚度必须做到极致精准,即便各DRAM裸片之间仅存在数微米的厚度差,堆叠后也会造成基板互连失效。若堆叠内多颗裸片厚度参差不齐,最终会出现焊盘无法对准的问题。”
来自东京大学、东北大学与日本国立科研机构理研(Riken)的联合团队,在IEEE VLSI研讨会上公布了一套可缓解该难题的创新方案。团队没有将裸片底部直接与基板电气连接,而是采用电感耦合收发系统:在存储裸片一侧制作尺寸约80微米×240微米的椭圆形电感线圈,同时在基板上垂直布设配套线圈;电流通过一侧线圈产生磁场,即可向另一侧线圈传输数据信号。线圈无需严格精准对位,大幅放宽了存储模组与基板的装配公差要求。
东京大学博士生Yuki Mitarai在研讨会上补充,供电线路数量更少、占用面积更大,因此统一布置在存储立方模组的侧边。
MOSAIC方案专为堆叠在GPU上方设计,单颗立方模组可集成98层裸片,总存储容量294GB。该方案未搭载微流控冷却结构,但热量可通过硅鳍片自然向上散出,芯片峰值温度可控制在81.3℃,接近当前HBM普遍80℃的温度上限。Mitarai还表示,若将DRAM裸片厚度削减三分之二至100微米,同款体积的MOSAIC立方模组可集成294层裸片,总容量提升至882GB。
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