SK海力士迎来新氢氟酸供应商ENF

ENF Technology已实现半导体制造用氢氟酸的本土化生产，并正式开始向SK海力士供货。氢氟酸（HF）由无水氟化氢与超纯水稀释制成，主要应用于半导体刻蚀与清洗工序，可去除晶圆表面残留的氧化层与金属污染物。2019年日本出台相关出口管制措施后，氢氟酸就成为韩国重点推进本土化替代的关键半导体材料。

业内消息称，ENF Technology已于本月上旬完成产品认证，并向SK海力士交付了首批半导体级氢氟酸。目前这批材料正在产线中开展稳定性测试。经过为期一至两周的初期验证后，本月下旬该公司将逐步扩大供货范围，覆盖包括动态随机存取存储器（DRAM）产线在内的各大主力生产线。业内预测，这款国产氢氟酸有望在SK海力士的产线需求中占据可观份额。

这是ENF Technology自主生产的氢氟酸产品首次导入SK海力士量产产线，也是该企业自2020年启动材料本土化项目以来取得的首个重大成果。ENF Technology最初推进氢氟酸本土化，是为了提升缓冲氧化蚀刻液（BOE）的盈利能力。缓冲氧化蚀刻液由氢氟酸、氟化铵（NH₄F）及各类添加剂调配而成。相较于常规氢氟酸，缓冲氧化蚀刻液的刻蚀速率更平缓、整体效果更均匀，适配半导体精细图形制程的生产要求。

在此之前，ENF Technology一直采购日本进口氢氟酸来生产缓冲氧化蚀刻液，原材料对外依存度高，推高了整体生产成本。凭借刻蚀速率平缓、均匀性出色的优势，缓冲氧化蚀刻液被广泛应用于精细图形制造环节。据统计，韩国本土半导体工厂每年氢氟酸需求量约6万吨，缓冲氧化蚀刻液的年需求量则达到9万至10万吨。

自2020年起，ENF Technology累计投入超1000亿韩元，在天安厂区搭建氢氟酸产线。项目一期最初规划投资额为348亿韩元，后续追加至536亿韩元，资金主要用于生产厂房与储存罐建设。2022年，公司再度追加509亿韩元投资扩充量产产能，此后每年持续加码厂区设备投入。

ENF Technology还计划使用自产氢氟酸生产缓冲氧化蚀刻液并对外供货。其天安厂区配套建设了氨气（NH₃）制备设施与仓储系统，可满足缓冲氧化蚀刻液的生产条件，是一座能够同时量产氢氟酸与缓冲氧化蚀刻液的一体化生产基地。

目前该公司还在积极拓展客户群体。除SK海力士外，ENF Technology正与多家全球半导体厂商推进氢氟酸产品认证工作，目标在今年下半年实现首批商业化出货。这款自研氢氟酸顺利实现量产落地，或将改写韩国本土半导体氢氟酸市场的竞争格局。

由于技术门槛严苛、行业监管标准高，长期以来韩国半导体级氢氟酸市场一直由日本供应商主导。半导体级氢氟酸属于超高纯度材料，即便微量杂质也会影响芯片品质，因此生产环节对杂质管控要求极高。同时含氟化学品本身具有毒性，也大幅提升了厂房建设与资质审批的难度。

日本斯特拉化工（Stella Chemifa）曾与韩国Soulbrain成立合资公司Fect Co.布局相关业务；森田化学（Morita Chemical）则联合ENF Technology组建合资企业FamTechnology，开展氢氟酸基蚀刻液相关业务。Soulbrain是韩国首家实现半导体级氢氟酸本土化量产的企业。该公司于2019年在忠清南道公州市建成氢氟酸生产工厂，并在2021年收购了日本斯特拉化工在Fect Co.的全部股份，将其转为全资子公司。2022年，Soulbrain完成对Fect Co.的合并，搭建起完整的自主生产体系。此后，该公司陆续拿下多家主流半导体厂商订单，长期领跑韩国半导体级氢氟酸市场。

今年5月，韩媒报道称半导体工艺用氢氟酸供应链拉响警报，预计6、7月价格连续上调。由于原材料无水氢氟酸价格较年初暴涨40%，半导体工艺用氢氟酸供应链已陷入紧急状态。究其原因，主要是中东相关冲突引发霍尔木兹海峡封锁带来的连锁影响。

行业消息显示，韩国SOLBE、ENF Technology、Husung等氢氟酸厂商自本月起，采购的中国产无水氢氟酸价格已较年初上涨约40%。业内人士表示：“SOLBE等向三星、SK海力士供应的半导体用氢氟酸价格，预计6月底至7月将大幅上调。”并称，“原材料价格已大幅上涨，三星与SK海力士只能接受涨价。”