Avaco低损伤溅射技术完成客户验证

Avaco正在扩大低损伤透明导电氧化物（TCO）溅射设备的供货范围，该设备是打造手机四边无框OLED面板的核心制程设备。这类零边框、全面屏OLED产品，需要将屏幕各类线路全部收纳至显示屏下方。这就要求把OLED阴极层改为透明电极，由于所用材料发生本质变化，生产过程必须用到低损伤TCO溅射设备。据悉，公司已完成针对多家新晋显示厂商的设备验证工作。

业内消息称，Avaco已面向潜在客户，完成基于电子回旋共振（ECR）等离子体技术的低损伤TCO溅射设备验证。该设备此前已供货给中国TCL华星光电。业内预计，伴随下半年全球面板厂商的产能投资与市场需求增长，相关订单将持续增加，最晚在明年上半年，公司有望拿下大批量订单。

低损伤TCO溅射设备主要用于制备氧化铟锌（IZO）、氧化铟锡（ITO）等透明电极，生产原理为溅射工艺：在真空环境下，利用氩离子高速撞击靶材，使靶材微粒脱离并沉积在晶圆或其他基板表面。该设备可应用于OLED以及钙钛矿太阳能电池领域。

低损伤TCO溅射设备的核心应用场景是制备OLED透明电极。手机OLED屏幕由多层薄膜构成，通电后有机层发光，光线透出便形成画面，而有机层上方需要铺设导电电极。这类电极既要具备良好导电性，也要保证光线能够顺利穿透。

传统手机OLED普遍采用镁（Mg）、银合金等金属材料制作阴极层。金属电极导电性能优异，但透光性存在短板。采用四边弯折工艺的OLED屏幕，还容易出现弯折区域画面失真、亮度下降等问题。为解决上述痛点，IZO等氧化物透明电极成为主流替代方案。

难点在于将IZO电极制备在OLED有机层上方的制程环节。使用普通溅射设备沉积氧化物电极时，会产生氧负离子等高能量粒子。这类粒子撞击已成型的OLED有机发光层，会直接损伤发光结构，而低损伤TCO溅射设备能够削弱粒子冲击，顺利制备氧化物透明电极。

为降低对有机层的损伤，Avaco采用了低压、低电压制程技术。该设备可在远低于传统溅射设备的电压环境下制备氧化物电极，大幅降低接触OLED有机层的粒子能量。其放电电压从传统设备的250~400伏，降至150~250伏。设备制备的薄膜品质也得到显著提升。Avaco自研测试数据显示，普通溅射工艺制成的薄膜表面粗糙度为1.56纳米，而采用低损伤溅射工艺的薄膜粗糙度仅为0.196纳米，粗糙度数值越低，代表电极膜表面越平整。

有机层损伤测试结果同样表现优异。实验中，工作人员在OLED常用有机材料三(8-羟基喹啉)铝表面，沉积厚度600埃的IZO电极，再检测发光亮度变化（有机层受损会直接导致亮度衰减）。最终测得亮度衰减幅度仅为10%~15%。

低损伤TCO溅射设备另一大应用领域为钙钛矿太阳能电池。这类电池需要在吸光发电层上方铺设透明电极，而吸光层同样对制程冲击十分敏感，该设备也可用于其透明电极的制备。

Avaco相关负责人表示：“低损伤TCO溅射技术突破了传统溅射工艺的核心短板，属于新一代制程解决方案。我们将顺应显示、新型能源器件市场对高品质薄膜的需求，持续拓展与全球客户的合作。”