美迪凯12寸玻璃晶圆批量出货,玻璃基板小批量出货

来源:半导纵横发布时间:2026-06-01 16:49
玻璃基板
芯片制造
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美迪凯成功切入三星的供应链体系。

近日美迪凯接受了55家机构调研,其发布的投资者关系活动记录表显示,公司和日本玻璃厂商合作,开展玻璃基板代加工业务,玻璃基板生产线2025年已通过某头部fab厂验厂。12寸玻璃晶圆(Glass Carrier)已批量出货,310*310和515*510等尺寸的玻璃基板小批量出货。不过,美迪凯也强调2025年半导体用玻璃基板相关的产品销售收入占公司总营收比重2.00%左右,占比较低,未对公司业绩构成重大影响。

同时,美迪凯还通过收购海硕力光电技术(苏州)有限公司和INNOWAVE VIETNAM CO.,LTD两家公司100%股权,已成功切入三星的供应链体系。目前手机摄像模组用软膜滤光片持续量产中,功率芯片的晶圆级封测业务也已进入产品验证。

美迪凯专注于光学光电子和半导体行业的细分领域,业务涵盖精密光学、半导体声光学、半导体微纳电路(主要为MEMS)、半导体封测及智慧终端等的研发、制造和销售。在半导体声光学领域,第一代、第二代超声波指纹芯片整套声学层及后道封测工艺已进入全面量产;图像传感器(CIS)光路层解决方案已实现量产,高像素图像传感器(CIS)光路层解决方案已进入开发阶段;公司配合知名终端客户开发半导体工艺键合棱镜,该工艺已开发成功并获客户认可。

在微纳电路领域,SAW滤波器晶圆已实现批量生产;MicroLED项目全流程工艺开发成功,已开始小批量投产;非制冷红外传感器芯片、压力传感器芯片、微流控芯片、激光雷达等MEMS器件也处于工艺选型开发阶段。

在半导体封测领域,射频滤波器已完成从晶圆制造到封装测试的全流程交付;功率芯片领域公司已拥有TO至TOLL、PDFN(CLIP)等封装技术,并实现批量生产。

在TGV工艺方面,美迪凯通过激光诱导与湿法腐蚀在玻璃基材上实现微小孔径(≥5μm)的通孔及盲孔处理,最大深宽比可达50:1,孔侧壁Ra值≤80nm。同时开发了孔内壁镀膜、电镀、CMP工艺以满足孔内金属化及产品平坦化需求,并利用平面RDL布线工艺实现电性互联,形成了完整的TGV全流程工艺。

在棱镜项目方面,美迪凯半导体工艺键合棱镜,融合了超精密光学冷加工、半导体光刻、光学成膜及棱镜键合等核心技术,可实现光路的多次折叠与高效传输,显著提升手机摄像头的变焦能力与成像质量,目前已经实现量产。同时,公司也正积极向海内外市场拓展该项业务。

值得一提的是,此前美迪凯公告拟募资不超过7亿元,用于“MEMS器件光学系统制造项目”、“半导体工艺键合棱镜产业化项目”以及补充流动资金。其中,半导体工艺键合棱镜产业化项目将采用结合超精密加工技术、半导体光刻技术、光学成膜技术及棱镜键合技术的光学棱镜加工工艺,实现光路多次折叠与高效传输。项目产品主要应用于手机潜望式长焦镜头等光学领域,可显著提升手机摄像头的光学变焦能力与成像质量。

在超透镜开发方面,美迪凯引进了12英寸90nm节点KrF光刻机,用于包括Metalens在内的高精度器件研发和加工。公司已开发了包括PVD非晶硅、ALD原子层沉积、百纳米级图形光刻、纳米柱刻蚀及填充、纳米级CMP平坦化等在内的Metalens工艺。

在多光谱技术开发方面,公司与国外Fabless厂商合作,采用无机镀膜方案搭配半导体黄光工艺及干法刻蚀工艺,通过区域化刻蚀精准控制膜厚,实现超过10个通道的多光谱传感器光路层加工,解决了市场量产方案因不同通道相互重叠导致精度不足等痛点。国内手机客户影像验证结果显示,该方案在自动白平衡(AWB)与真实色彩还原能力上表现优秀,目前产品处于样品认证阶段。

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