首页
资讯池
半导圈
视频场
产品汇
搜索
注册/登录
金宏气体近日与国际存储芯片行业巨头正式签署供气框架合同,成为其直接气体供应商之一。根据协议,金宏气体将向某国际存储芯片行业企业供应超高纯度氧化亚氮(N₂O)气体,该类气体主要用于半导体制造化学气相沉积(CVD)工艺制程,对纯度与稳定性要求极高。此次签约是金宏气体在半导体电子特气领域的一次战略性突破。
本文转自媒体报道或网络平台,系作者个人立场或观点。我方转载仅为分享,不代表我方赞成或认同。若来源标注错误或侵犯了您的合法权益,请及时联系客服,我们作为中立的平台服务者将及时更正、删除或依法处理。