
据韩媒报道,三星电子与SK海力士正对中国工厂进行大规模设备投资,同步提升工艺水平与生产能力。在全球人工智能投资热潮推动下,存储器芯片供应短缺问题日益加剧,两家韩企正动员包括中国工厂在内的所有产能扩大供应。三星与SK海力士希望通过大规模投资,改善NAND Flash与DRAM生产工艺,实现芯片供给扩大与盈利能力提升。
据金融监督院消息,三星电子去年对中国西安工厂投资4654亿韩元,较 2024 年(2778 亿韩元)增长 67.5%。中国西安工厂是三星电子唯一的海外 NAND Flash 生产基地,承担着三星约40% NAND 总产量。三星电子曾在 2019 年向西安工厂投资约 6984 亿韩元,此后 2020 至 2023 年间未进行大规模追加投资。但该公司在 2024 年重启投资,投入 2778 亿韩元,去年进一步将投资额提升至 4654 亿韩元,对当地产线进行升级。
SK 海力士去年也向中国无锡的 DRAM 工厂与大连的 NAND Flash 制造子公司投入超 1 万亿韩元。其中仅无锡 DRAM 工厂就获得 5810 亿韩元投资,较 2024 年(2873 亿韩元)大增 102%;大连 NAND 工厂投资额为 4406 亿韩元,同比增加 52%。这是SK海力士自2022年收购英特尔大连 NAND 工厂以来,首次对中国工厂实施万亿韩元级别的集中投资。
作为全球存储芯片双巨头,三星电子与SK海力士积极加码中国生产设施,其背后原因是源源不断涌入的存储芯片订单。当前存储市场正面临严重的供应短缺,DRAM 与 NAND Flash 今年计划产量已基本 “售罄”。随着 AI 服务从单纯搜索向需要更多推理与学习的智能体(Agentic)方向演进,高性能 DRAM 需求持续攀升,用于处理信息的 AI 数据中心所需的超高规格存储器订单也呈现爆发式增长。
瑞银证券预计,今年全球半导体市场规模将较去年扩大40% 以上,达到1万亿美元。叠加中国 AI 基建投资带动,内需同样强劲。中国存储芯片市场规模去年已接近 4580 亿元人民币,预计今年将进一步扩大。三星电子与SK海力士仅依靠韩国本土产能已无法满足全球需求,因此正通过升级中国生产基地来扩大供应。三星计划通过此次大规模追加投资,将西安 NAND 工厂的主力工艺从 128 层(6 代)升级至 236 层(8 代)。
一位业内人士表示:“为防止核心技术外泄,海外工厂通常会比韩国本土落后约2代工艺。三星今年计划在韩国本土量产 400 层(10 代)NAND 产品,因此中国工厂向8代工艺切换的速度将会加快。”
据了解,SK海力士近期已顺利完成其中国无锡工厂的制程升级,将DRAM生产节点从原有的1z 工艺全面转向更先进的1a 工艺。目前,无锡工厂的DRAM月产能约为18万至19万片12英寸晶圆,其中约90%已完成向1a制程的转换。在DRAM工艺中,1z代表10纳米级别第三代制程,1a则属于第四代。此举将使无锡工厂能够大规模量产第五代双倍数据率(DDR5)等高附加值产品,预计将对业绩改善形成重大贡献。业内人士表示:“占据SK海力士整体DRAM产量30% 以上的无锡工厂,已转型为高附加值产品生产基地。大连工厂也将通过扩大投资改善财务结构,提升生产效率。”
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