为智能手机显示屏、人工智能计算、电动汽车电池等领域提供支撑的高性能半导体器件,正越来越多地采用二维材料,以突破硅基材料的尺寸极限。为优化这类技术,密歇根大学工程学院团队开发出一套精确数学模型,可描述各向异性(即传导分布不均)导电性与器件几何结构的影响。
该成果发表于《ACS Applied Electronic Materials》,题为 “Impact of Anisotropic Conductivity on Current Crowding and Spreading Resistance in Vertical Contacts to 2D Thin Films”。
如果能够拥有精准描述由层状二维材料构成的各向异性薄膜中电流传输规律的模型,那么就能够助力设计出更可靠、更高性能的纳米电子器件。

密歇根大学工程学院的研究人员开发出一套精确数学模型,用于模拟薄膜电子器件中的电流拥堵现象,具体包括电流拥挤与扩展电阻。借助这一新工具,工程师可以优化各向异性二维材料的电接触结构。
层状二维材料的各向异性导电性意味着:从垂直接触端注入的电流可以在水平方向快速传导,但在垂直层间则会受到阻碍,因为各层之间仅依靠微弱的范德华力结合。来自金属接触端的电荷往往会在边缘附近 “拥堵”,而不是沿着传导速度更快的水平方向扩散,这种现象被称为电流拥挤。
当电流被迫从一个很小的接触点向更大面积的材料内部扩散时,电流拥挤会进而引发扩展电阻(也称为收缩电阻)。这有点类似于一条四车道高速公路先收窄为两车道,再扩成六车道时所发生的交通堵塞。
以往的扩展电阻模型均假设材料为各向同性电荷传输,即电流在所有方向均匀扩散。研究团队发现,这类模型对于薄膜器件中常用的各向异性二维材料(如二硫化钼 MoS₂ 和石墨烯)普遍不适用。
该研究第一作者、密歇根大学核工程与放射科学博士生 Md Arifuzzaman Faisal 表示:“在传输线法或经典扩散模型中,接触电阻,尤其是扩展电阻的贡献,通常被当作拟合参数处理,而不是基于几何结构与材料各向异性。对于二维材料而言,这种简化会掩盖重要的物理机理。”
为避免依赖近似处理,研究团队利用名为拉普拉斯方程的二阶微分方程,构建了全新的精确场解。与以往模型依赖 “材料足够厚或足够长” 的数学简化假设不同,新模型同时考虑了器件的实际物理尺寸。
该研究通讯作者、密歇根大学核工程与放射科学副教授 Peng Zhang 表示:“我们的研究动机,源于传统接触模型与高各向异性材料中真实电流分布之间的脱节。如果要将这些材料可靠地应用到实际技术中,填补这一差距至关重要。”
研究人员采用有限元法仿真验证精度,结果与新模型高度吻合。随后,他们将模型应用于二硫化钼薄膜以及更宽、更厚的高定向热解石墨衬底的实验数据,证明该模型在实际场景中同样有效。在两种材料中,该模型无需使用拟合参数即可与扩展电阻数据完美匹配。
最后,研究人员回溯分析了以往模型的失效原因。他们发现,传统模型在一定范围内有效,但在超薄膜或短沟道结构中会失效,而这两者正是纳米电子器件的关键特征。
Peng Zhang 表示:“这项工作提供了一种清晰、无歧义的方法,用以理解电流在层状材料中的真实流动方式,而不是依赖仅在有限场景下成立的简化假设。通过明确考虑各向异性导电性与真实器件几何结构,该模型有助于科研界避免误判接触电阻测量结果,并为设计更优的二维电子器件接触结构提供实用指导。”
研究人员利用该模型,分别对平面和圆盘状薄膜材料进行求解,以观察几何结构是否会影响各向异性电荷传输。在接触面积一致的前提下,平面接触与圆盘接触的扩展电阻基本相同,这表明核心物理机制主要由各向异性电荷传输与器件尺寸决定,而非材料层的横向形状。
面外导电性偏低,即二维材料层间垂直方向导电性差,会迫使大部分电流沿接触边缘流动,这会显著提高局部电流密度,并产生局部热点,威胁器件可靠性。提升二维层的面外导电性,是降低扩展电阻与接触电阻最有效的途径。
通过合理调整接触面积与薄膜厚度,工程师可以减轻电接触处的 “电流拥堵” 程度。
Peng Zhang 总结道:“该模型不仅理论严谨,而且具备直接应用价值。研究人员可以将其直接用于实际器件,更准确地分析电流拥挤、提取有意义的传输参数,并优化接触设计。”
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