俄罗斯自研350纳米光刻机

据俄罗斯国家工业信息系统最新目录显示，由泽列诺格勒纳米技术中心自主研发的新型光刻系统已正式纳入国家工业设备名录。

这台型号为RAVC.442174.002TU的设备，标志着俄罗斯在构建独立半导体制造生态系统、打破西方技术封锁上，迈出了从“实验室研发”到“工业化部署”的实质性一步。

此次入列的光刻系统是一款对准和投影曝光装置，其核心指标为350纳米（0.35微米）分辨率。虽然这一制程节点与当前全球最先进的3纳米或5纳米工艺相比显得“古老”，但在半导体产业的宏大版图中，它绝非无用之物。