IBM宣布与半导体设备制造商泛林就亚 1nm 尖端逻辑制程的开发达成合作,双方为期 5 年的新协议将重点聚焦新材料、先进蚀刻 / 沉积工艺、High NA EUV 光刻的联合开发。
两家企业将结合 IBM 奥尔巴尼园区的先进研究能力和泛林的端到端工艺工具和创新技术,团队将构建并验证纳米片和纳米堆叠器件以及背面供电的完整工艺流程。这些能力旨在将 High NA EUV 图案可靠地转移到实际器件层中,实现高良率,并支持持续的微缩化、性能提升以及未来逻辑器件的可行量产路径。
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