SK海力士正开发新技术以降低NAND制造成本

来源:半导纵横发布时间:2026-02-11 17:00
SK海力士
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SK海力士正在开发名为“AIP(All-In-Plug)”的创新技术,以缓解因堆叠层数增加而带来的成本增长。据悉,传统制造方法需要分别对多个NAND层进行蚀刻,通过键合工艺连接起来,而AIP旨在通过一次性蚀刻全部NAND层来显著降低制造成本。

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