2nm芯片,开打价格战

来源:半导体产业纵横发布时间:2025-09-28 17:51
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三星2nm晶圆代工报价降至2万美元。

根据DigiTimes报道,为了与台积电2nm(N2)制程竞争,三星已经将其2nm(SF2)制程晶圆的代工报价下调至20000美元。据报道,台积电已将 2nm 制程晶圆价格定为每片约3万美元,并对所有客户实行统一价格。

此举对三星来说显然是非常激进的,但可能也是必要的,如果没有获得大的客户采用,仅依靠三星自身的新一代旗舰Exynos处理器的需求,是无法使其2nm晶圆厂达到合理的产能利用率,如果大部分产能都被限制,也同样会面临巨额的亏损。

根据之前的消息显示,三星2nm初期良率低于30%,但是其正全力投入良率的改进,目标是年底将2nm良率提高到70%。

再看台积电,得益于存储芯片领域的技术优化,台积电2nm制程自去年7月在新竹宝山晶圆厂风险试产以来,良率从去年底的60%快速攀升至当前的90%(256Mb SRAM)。供应链传出,最近台积电位于高雄楠梓科学园区第一座晶圆厂(F22厂P1)迈入量产新里程碑,月产能在1万片左右。另外,经过近4个月的厂房赶工、建置无尘室等厂务工程后,高雄2nm第二座厂(P2)进入装机阶段,预计今年底前加入试产行列,P1、P2规划今年共可达3.5万片月产能。

从3nm节点的初期投产经验看,良率爬坡是一大挑战。但凭借3nm节点200万片晶圆的量产经验,将2nm工艺开发周期压缩至18个月,良率仅用9个月便从30%提升至60%,预计年底将具备每月5万至8万片晶圆的投片能力。此外,台积电收到的2nm工艺流片(芯片设计验证阶段)数量是5nm工艺的四倍,显示出市场对2nm工艺的强烈需求。台积电N2的商用化将全球芯片设计企业推向新一轮“竞速赛”,AMD、英伟达、联发科、高通和苹果等关键客户均已锁定2nm产能。

9月初,据韩国媒体ETnews援引业内人士报道称,三星电子晶圆代工部门正在准备量产下一代旗舰级移动处理器Exynos 2600,预计将采用三星自家的2nm制程,这似乎也意味着三星即将解决良率问题。

此外,电动汽车大厂特斯拉已与三星于上个月签订了一份价值高达22万亿韩元(约165亿美元)的半导体代工合约。 这项合作的重点是为特斯拉生产名为“AI6”的高性能系统半导体,该芯片预计将利用三星的第二代2nm(SF2P)于2026年在三星美国晶圆厂量产,将广泛应用于特斯拉的下一代全自动驾驶(FSD)系统、机器人以及数据中心等领域。有着特斯拉的助力,三星SF2P的良率有望获得进一步提升。

但是,目前三星的第一代2nm制程除了已经曝光的Exynos 2600之外,尚未有其他大客户的选择采用。

半导体设计企业在3nm以下的先进工艺中对台积电的依赖程度不断加深,2nm芯片的价格如此高昂,一方面是因为各个环节的成本都在上升,另一方面也是因为台积电在芯片代工行业中,已经形成了事实上的垄断。而台积电产能不足、价格上涨,半导体设计企业对代工厂商多元化的意愿也在不断增强。进入2nm工艺时代后,三星能否成为台积电强有力的对手仍需观望。

如今,2nm制程节点正成为决定未来十年全球科技主导权的关键战场。7月,日本芯片制造商Rapidus也宣布启动2nm晶圆测试生产,并计划于2027年在北海道千岁市的IIM-1厂区实现量产。Rapidus此次试产采用全环绕栅极(GAA)晶体管技术,这是当前半导体行业最前沿的制程工艺之一。GAA架构通过三维堆叠设计提升晶体管密度与能效,较传统的FinFET技术更具优势。目前,早期测试晶圆已达到预期,电气特性,临界电压、驱动电流、漏电流等核心参数均符合设计标准。

Rapidus的IIM-1厂区自2023年9月动工以来进展顺利,无尘室于2024年完工,截至2025年6月已连接超过200套设备,包括先进的DUV和EUV光刻工具。Rapidus的目标是通过优化器件特性、提升性能与良率,最终实现量产。

此次2nm晶圆试产是日本在先进半导体制造领域迈出的关键一步。

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