时隔7年,三星重启Z-NAND技术

来源:半导体产业纵横发布时间:2025-08-09 15:15
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三星正致力于重新开发Z-NAND,其性能目标达到传统NAND闪存的15倍。


三星电子在搁置七年后,正决定重新启用 Z-NAND 内存技术,并将其定位为满足日益增长的人工智能 (AI) 工作负载需求的高性能解决方案。此举在美国举办的 2025 年未来内存与存储 (FMS) 论坛上宣布,标志着三星再次进军高端企业存储领域。

据报道,在此次活动中,三星内存业务执行副总裁Hwaseok Oh表示,公司正致力于重新开发Z-NAND,其性能目标达到传统NAND闪存的15倍,同时将功耗降低多达80%。

即将推出的 Z-NAND 一代将采用 GPU 发起的直接存储访问 (GIDS) 技术,使 GPU 能够直接从存储器中获取数据,而无需经过 CPU 或 DRAM。该架构旨在最大限度地降低延迟,并加速大型 AI 模型的训练和推理。

专为解决人工智能瓶颈而打造

三星 Z-NAND 的复苏反映了更广泛的行业转变,因为快速扩展的 AI 模型超越了传统的存储基础设施。在当前的系统中,数据先从 SSD 经由 CPU 移动到 DRAM,然后再到达 GPU,这造成了严重的瓶颈,导致性能下降并增加能耗。

三星支持 GIDS 的架构旨在消除这些瓶颈,允许 GPU 将大型数据集从存储器直接加载到 VRAM 中。Oh 指出,这种直接集成可以显著缩短大型语言模型 (LLM) 和其他计算密集型 AI 应用的训练周期。

三星于 2018 年首次推出 Z-NAND 技术,推出了 SZ985 Z-SSD,这是一款面向企业级和 HPC 应用的高性能 NVMe SSD。这款 800GB 固态硬盘基于 48 层 V-NAND 和超低延迟控制器,顺序读取速度高达 3,200MB/s,随机读取性能为 750K IOPS,写入速度为 170K IOPS,延迟均低于 20 微秒。它的性能比现有 SSD 高出五倍以上,读取速度比传统的 3 位 V-NAND 快十倍以上。

SZ985 还配备了 1.5GB 的节能 LPDDR4 DRAM,额定写入容量高达 42PB,足以覆盖一部全高清电影 840 万次。其可靠性由 200 万小时的平均故障间隔时间 (MTBF) 提供支持。

尽管 Z-NAND 规格令人印象深刻,但由于成本高昂且容量相对较低,其市场应用有限。此外,Z-NAND 的推出还面临着来自英特尔和美光 3D XPoint 技术的竞争阻力,后者被冠以 Optane 的品牌并进行了商业化。

重新审视与 3D XPoint 的竞争

2016-2017年,三星 Z-SSD 成为英特尔和美光 3D XPoint 的直接竞争对手,这两家公司都瞄准了 DRAM 和 NAND 之间的性能差距。与标准 SSD 相比,Z-SSD 的响应时间提高了 4 倍,读取速度提高了 1.6 倍,同时还利用三星现有的 NAND 技术降低了生产成本。

据报道,虽然3D XPoint宣称其理论速度比SSD快1,000倍,而成本却是SSD的4到5倍,但其实际性能始终达不到这些要求。

在实际测试中,3D XPoint 固态硬盘的性能大约比传统固态硬盘快 6 到 10 倍。分析师指出,三星采用成熟的 3D NAND 技术,使其能够以更低的生产成本提供具有竞争力的替代方案。

由于市场采用率低迷,英特尔最终于2022年关闭了傲腾(Optane)业务,这为三星在高端非易失性存储器市场重振雄风创造了机会。Z-NAND的复兴正逢其时,能够满足人工智能、大数据和物联网等对超低延迟和高耐用性有更高要求的应用需求。

押注人工智能存储前沿

三星决定重新开发 Z-NAND,体现了其在 AI 时代向不断发展的数据中心架构的战略转变。该技术以 GIDS 为核心,专为以 GPU 为中心的系统量身定制,优先考虑低延迟和能源效率。

三星雄心勃勃,力求将性能提升至现有 NAND 的 15 倍,并正在将其下一代 Z-NAND 定位于填补英特尔 Optane 退出后留下的空白。随着人工智能系统对能够模拟 DRAM 速度并保留 NAND 存储容量的内存的需求日益增长,Z-NAND 或将成为未来计算基础设施的关键推动因素。

然而,与 Z-NAND 的积极推进态势不同,三星在另一项关键存储技术的发展上却面临着延缓的挑战。

下一代430层堆叠的V10 NAND Flash面临挑战

据报道,面临复杂的内外部挑战,三星目前正就其下一代430层堆叠的V10 NAND Flash 的量产策略进行深度审慎评价,原预计于2025年下半年启动,现在则可能推迟到2026年上半年才能进行大规模的量产投资。至于延宕的主因,包括高堆叠层数NAND Flash 需求的市场不确定性、引进新技术所伴随的庞大成本压力,以及新制程技术实际应用上的困难。

报道称,V10 NAND Flash 是三星在储存技术领域的最新里程碑,其设计核心在于采用了约430层堆叠的储存单元(Cell),这比目前市面上三星最先进的V9 NAND(预估约290层堆叠)高出了超过100层。

业界之前普遍预期,三星电子有望在2025年下半年便启动V10 NAND Flash 的量产投资。然而,截至本月,三星电子仍未能敲定V10 NAND Flash 所需的蚀刻等关键制程设备的供应链。这主要归因于高堆叠层数的NAND Flash 产品的市场需求存在不确定性,以及导入全新制程技术所衍生的成本效益问题,这些因素都严重阻碍了投资的步伐。

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