Rapidus资金补助来源引批评，质疑当局挪用公款

日本政府对芯片制造商Rapidus 的财务支持引发批评，反对派议员质疑此举涉嫌预算挪用。日本政府11 月宣布在7 年内投入至少10 兆日元（约636 亿美元）的资金，支援日本半导体与人工智能（AI）产业。

在本财年补充预算中，日本政府已拨出首笔1.3 兆日元的资金，一部分资金将用于Rapidus，目的是推动先进芯片制造回流日本。首相石破茂表示，这项计划不会透过发行弥补赤字的政府债券来筹措资金，而是从未动用的疫情 纾困款项中拨款。

根据在野的立宪民主党（Constitutional Democratic Party）下议院议员Satoshi Honjo 于12 月10 日在预算委员会上提出的财务部资料，总计9,866 亿日元经费来自原本预留给中小型企业在疫情期间的现金流。他认为，疫情纾困款项原本来自赤字补偿债券，“这做法无异于挪用公款。”

针对质疑，石破茂强调未使用的疫情纾困资金已经归还国库，绝对没有挪用的情况。

法政大学经济学教授、财政政策专家小黑一正（Kazumasa Oguro）表示，当谈到将未使用的资金用于其他产业政策时，“讨论将返还资金投资其他产业政策的利弊很重要，但从财政民主角度来看，国会已遵循必要的程序。”但他警告，半导体是个高风险领域，受政府支援的公司可能无法达到获利目标。

政府计划建立由第三方专家组成的检视机制，定期检视芯片专案的进度，并讨论是否继续提供支援。

Rapidus 成立于2022 年，由丰田汽车、索尼集团（Sony Group）等八家公司投资73 亿日元。政府已承诺向该公司提供高达9,200 亿日元的援助，但开始量产还需要4 兆日元的额外资金。

展望未来，政府将以各种形式提供支援，包括投资和贷款担保。日本经济产业省资深官员认为，需要谨慎处理政府与私营部门的比例，这可能影响包括海外客户在内的采购意愿。

大部分疫情纾困资金都是通过政府各部门设立的特别基金支付，这类基金允许在几个预算年度内按需使用资金，但批评人士认为这类基金容易缺乏监督，导致浪费。截至2023 财年，这些基金的剩余资金达18 兆日元，较疫情爆发前的2019 财年增加八倍。

日本买的EUV光刻机开始安装，准备造2nm芯片

Rapidus成为日本首家获得极紫外（EUV）光刻设备的半导体公司，已经开始在位于北海道正在建设的“IIM-1”芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。

12月14日，荷兰供应商ASML生产的极紫外光刻系统（EUV）的第一批部件抵达机场。由于系统规模庞大，高约3.4米，每个完整的单元重达71吨，大约和一头鲸鱼一样大。它将分四个阶段进行安装，设备安装预计在本月底完成。

NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻机的最新型号，能满足 Rapidus 首代量产工艺 2nm 的制造需求。该光刻机与 0.55 (High) NA EXE 平台共享部分组件，晶圆吞吐量较前款 NXE:3600D 提升 37.5%。

除核心的 EUV 光刻机外，Rapidus 还将在 IIM-1 晶圆厂安装一系列配套先进半导体制造设备以及全自动材料处理系统，以实现 2nmz 制程 GAA（IT之家备注：全环绕栅极）结构半导体的生产。

Rapidus 再次确认 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月启动试产，且该晶圆厂所有半导体制造设备均将采用“单晶圆工艺”，Rapidus 将在该模式下构建名为 RUMS（快速和统一制造服务）的新型半导体代工模式。

极紫外光刻设备结合了特殊的光源、透镜和其他技术，以形成超精细的电路图案。因为系统的体积较大，因此对振动和其他干扰的敏感度较低。

11月，Rapidus CEO 小池淳义带ASML监事会成员Martin van den Brink参观了洁净室和其他厂房。Martin van den Brink曾担任首席技术官，在开发极紫外光（EUV）技术方面发挥了关键作用，他批准了设备的安装。

ASML是目前全球唯一的EUV光刻机供应商，每台设备成本约1.8亿美元以上，去年全球仅交货了42台。

日本曾在1980年代占据全球超过50%的半导体市场份额，但到2000年代已退出先进逻辑制程芯片的竞争。

Rapidus的成立旨在重振日本先进芯片的生产能力，降低对进口芯片的依赖，日本政府目标到2030年实现国内半导体销售额达15万亿日元，达到2020年的三倍。