曹健林：Lithography technology在中国一定会迅速发扬光大

今日，第八届国际先进光刻技术研讨会上，IWAPS会议主席、中国集成电路创新联盟理事长、研究员曹健林分享了三点感受。

第一点，本届国际先进光刻技术是第八届会议，会议地点选择在嘉兴南湖，这是每一位中国人都熟知的名字。中国共产党从这里启航。当大前辈们在这里创建中国共产党时，他们想到的是一定会推翻反动统治、建设民主自由、繁荣富强的新中国。而代表21世纪初期，先进集成电路技术中最复杂的工艺Patterning technology或者Lithography technology，所需要的装备是整个前道光刻中最复杂的设备，现在许多国人都在持续努力。我相信，今后国际先进光刻技术今后还会一届一届地持续开展，同时也会更多像今天参会者一样的专家、企业家和学者聚集到这里。

第二点，SPIE（国际光学工程学会）对中国科技界的有重大影响。30多年前，SPIE还在讨论对于像中国这样的发展中国家是否可以介绍一些中国学生到此参会。如今，希望大家能够继续坚持将工程光学和先进技术推向全世界。工程科学、工程技术，包括相关研究和产业应该造福于全人类。我们希望与SPIE的合作能够成功，并在明年吸引更多国际友人到此。

第三点，今天世界上都遇到了一些经济困难，各个国家都在寻求解决方案。今年诺贝尔奖物理学奖和化学奖都给了AI，经济学奖则给予研究经济发展与制度关系的经济学家，我觉得这个非常不错。中国特色发展道路也值得全球经济学家研究探讨，科技发展、经济发展与制度的联系非常复杂，它不仅仅属于某种制度。我相信中国人民和中国科学家将用实践证明中国特色发展道路有效果，我们也能够与发达国家迅速缩小差距，走到全球技术发展前列。我相信在Patterning technology或者叫Lithography technology的方面，在中国一定会迅速发扬光大。