中微公司正式发布其全新产品——Primo Matrix®,双反应台等离子体晶圆切割设备,并宣布全球首台设备已顺利付运国内重要集成电路封装客户。据介绍,在切割精度方面,此设备可适用于小到5μm的不同切割道宽度工艺;工艺兼容性方面,此设备支持25–700μm晶圆厚度范围;系统最多可搭载6个刻蚀反应台,适配长工艺时间需求;同时具备介质层等硬掩膜开口刻蚀能力,可适配具有介质层及复杂表面结构的晶圆加工需求。
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