三星、SK海力士扩产，蔡司配套准备就绪

韩国是蔡司所有技术均已落地的核心市场。尤其是半导体领域，行业正在推进超微工艺研发以及大规模晶圆厂投资。蔡司已经完成对应的准备工作。近日，蔡司韩国新任负责人Jan Jehsen在接受采访时阐述了韩国本地业务战略。

Jan Jehsen于2012年加入蔡司，先后担任专项运营项目负责人、制造项目经理、产业卓越运营负责人等岗位。2021年起，她出任半导体事业部供应链管理负责人，并在今年8月正式就任蔡司韩国新任负责人。韩国市场对蔡司而言十分重要。1846年在德国成立的蔡司，生产用于半导体、医疗等各类高端产业的光学元器件。蔡司是全球唯一EUV光刻机厂商ASML的高性能镜头独家供应商，因此和三星电子、SK海力士等主流半导体企业业务联系紧密。

Jan Jehsen表示：“韩国是蔡司全部技术都已落地的重要市场，除半导体之外，我们在医疗健康、工业科研、显微镜、眼科手术领域同样具备很强影响力。我们的目标是和韩国客户建立紧密合作关深度理解客户发展路径，并以此推动整个蔡司集团的创新。”

提前开发High-NA EUV方案

伴随半导体工艺持续微缩，蔡司的光学解决方案有望获得更多关注。目前半导体行业已经跨过数纳米（nm）节点，正在研发埃米（Å；0.1纳米）级别的超微工艺。Jan Jehsen称：“想要实现更小尺寸器件，需要低划痕、低缺陷的大型光学系统，以及高分辨率、高稳定性的量测技术。在半导体微缩的替代路线，先进封装领域，掌握高精度量测技术同样至关重要。”

High-NA EUV是半导体微缩的核心技术之一。对比传统光刻使用的氟化氩（ArF）光源，EUV光源波长仅为前者的1/13（13.5纳米），已经应用在7纳米以下系统芯片、10纳米中早期DRAM产品上。High-NA EUV技术将镜头数值孔径（NA）从原来的0.33提升至0.55。数值孔径代表光线的聚光能力，数值越高，光刻分辨率越强，预计将在未来2至3年内进入大规模量产。

蔡司AIMS EUV 3.0掩膜版检测设备

Jan Jehsen强调：“蔡司早在6年前就启动High-NA EUV掩膜版量测解决方案的研发。当其他企业还在质疑这项技术的时候，我们就已经抢先布局，这是我们的差异化优势。针对High-NA EUV技术落地，蔡司已经做好充分准备。”

掩膜版是光刻工序中，用于在晶圆上刻印特定电路图形的核心材料。蔡司供应AIMS系列设备，用于检测掩膜版的性能与缺陷。

三星电子、SK海力士大型晶圆厂投资，对应准备工作已完成

当前三星电子、SK海力士等主要半导体制造企业，都在海内外投入设备资金，建设大型半导体产线。三星计划投入约2030万亿韩元，打造平泽园区、龙仁国家产业园区等半导体产业集群。

Jan Jehsen表示：“蔡司产品需要高精度特种玻璃等材料。如果等到芯片需求上涨之后才着手搭建供应链，为时已晚，我们必须提前研判行业趋势、分析供应链。针对韩国企业大规模晶圆厂投资，蔡司已经准备就绪。”

举例来说，蔡司在今年7月公布德国上科亨半导体制造技术（SMT）工厂扩建计划，目标新增25000平方米生产空间。这座工厂计划引入面向High-NA EUV的高精度光学系统、量测设备。

依托创新中心拉近和韩国客户的距离，有望开展研发合作

蔡司计划通过蔡司半导体创新中心（ZSKIC）深化和当地企业的合作。该中心7月在龙仁揭牌，客户可以现场体验蔡司先进光学与量测设备；目前已经入驻两台设备，剩余设备计划年内陆续进场。

Jan Jehsen说：“客户直接来到创新中心，和蔡司协同优化工艺，这还是第一次。我们不仅可以从工程角度优化客户工艺，也能在这个过程中持续迭代软硬件一体化方案。”

被问及是否会为韩国客户设立研发（R&D）据点时，她回应：“现阶段还没有确定，但这是一个具备可行性的选项。”

Jan Jehsen表示：“在韩国任职期间，我重点打造一支高能力团队。把积极性高的团队、客户协作以及市场洞察结合起来，不仅可以推动蔡司韩国业务发展，还能进一步加速整个集团的创新进程。”