2026年全球300mm设备支出将达1490亿美元

来源:半导纵横发布时间:2026-10-16 13:58
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到2029年将攀升至2270亿美元。

近日,SEMI在SEMICON West上发布最新一期《300mm晶圆厂展望报告》。报告显示,预计2026年全球300mm前道晶圆厂设备支出将达到1490亿美元,较2025年的约1130亿美元增长31%,创下历史新高;此后数年这一投资仍将以两位数增速延续,到2029年攀升至2270亿美元。300mm是当前全球半导体产能的绝对主流,其设备支出长期占据晶圆厂资本开支的大头,而本轮增速显著跑赢200mm等成熟尺寸,恰恰反映出先进产能正加速向大尺寸、向更前沿的工艺节点集中。这意味着,持续近三年的半导体设备扩张周期并未因局部库存调整而降温,反而在AI算力与先进制程的拉动下进入加速兑现期。

设备投资的高涨,与新厂建设的推进互为表里。SEMI预测,2026年和2027年全球将分别有20座和18座新的300mm晶圆厂或产线开工建设,不包括纯研发晶圆厂;其中美国预计2026年有3座、2027年有4座新设施开工。投产端同样密集:2026年预计有13座新的300mm晶圆厂或产线投产或实现首批晶圆下线,2027年这一数字将增至23座。从地域看,除美洲外,中国台湾、韩国、日本及中国大陆的成熟与先进制程产线也在持续上马,本轮扩产呈全球多点开花之势。从开工到投产的节奏看,这轮扩产并不是停留在纸面的规划,而是正在转化为实打实的产能爬坡。

建设支出方面,全球300mm晶圆厂建设支出预计2026年增长23%至475亿美元,2027年再增长33%至633亿美元,并于2028年达到684亿美元。相关投资主要投向先进制程逻辑芯片、存储器及其他300mm半导体技术的产能扩张。值得留意的是,美洲成为这轮扩张中弹性最大的区域:SEMI预计,美洲的设备支出将从2026年的181亿美元增至2029年的406亿美元,实现翻倍以上的增长,背后是英特尔、台积电、三星等巨头在当地密集部署产能。美洲设备支出翻倍,折射的不只是单一区域的产能扩张,更是全球半导体制造版图在多因素博弈下的重新排布。

这轮扩张的驱动力清晰而集中。AI算力需求带动先进逻辑与晶圆代工持续加码,3DNAND架构升级与HBM、先进封装的放量,则把存储设备投资推上新高。SEMI此前预计,2026年300mm存储设备投资将首次突破500亿美元,增至约520亿美元,并在2027年进一步升至570亿美元。存储与逻辑双线共振,正是本轮设备支出增速远超上一轮周期的关键所在。细分来看,DRAM向高带宽HBM的演进、3DNAND向更高堆叠层数的升级,都需要更多沉积、刻蚀与先进封装设备;AI芯片对先进封装的依赖,又为前道设备开辟出新的价值量空间。对晶圆厂而言,资本开支竞赛的实质,是抢在需求曲线前锁定产能与工艺节点。

对设备商与产业链而言,订单景气度正进入兑现期。一方面,新厂集中开工会带来前道设备、材料与零部件需求的密集释放,过去两年的在手订单开始批量转化;另一方面,先进制程与存储架构的迭代,持续为设备厂商打开新品类与新价值量空间,光刻、刻蚀、薄膜沉积与量检测等环节均有增量机会。业内普遍预期,未来两到三年的设备需求仍将保持高位,但竞争也更为立体,从单台设备交付,到多工艺成套能力与本土化服务的比拼,设备商必须在扩产窗口期内完成能力升级,才能吃到这轮周期的红利。对本土设备企业而言,这既是订单兑现的窗口,也是从单品突破走向平台化布局的关键节点。

当然,狂奔的扩张也埋着隐忧。如此集中的产能投放,若需求端未能同步消化,2028年前后或将面临阶段性过剩的压力;地缘与供应链的不确定性,也可能让部分区域的扩产计划生变。但就眼下而言,全球半导体设备业正处在难得的高景气窗口。市场已在关注,这场由AI算力掀起的资本开支竞赛,正从布局阶段转入订单与产能的验证期,真正的考验,是投入能否如期转化为有竞争力的产能。对身处其中的厂商与投资者来说,关键不在判断周期何时结束,而在这轮由AI驱动的结构性设备资本开支,能培育出多少真正可持续迭代的产能与工艺能力,这才是2270亿美元背后更值得追问的问题。

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