IWAPS 2026 | ​国际先进光刻技术研讨会日程公布

来源:半导体产业纵横发布时间:2026-08-20 18:03
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IWAPS 2026计划于2026年9月10-11日于深圳国际会展中心举行。

国际先进光刻技术研讨会(IWAPS)即将开幕,诚邀您共赴学术盛宴!在这里,产业界与学术界的最前沿研发成果交汇,国际光刻技术动态深度交融!

IWAPS依托中国创新沃土,搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下,在全球企业、高校、协会等的共同支持下,IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺、检测和测量、掩模和材料、计算光刻、设计与工艺协同优化及新型光刻技术等主题的国际先进光刻交流平台。

IWAPS持续欢迎全球领军企业分享产业发展蓝图碰撞智慧,持续期待科研院所聚焦核心技术挑战分享创新成果,诚挚邀请青年学者携蓬勃朝气参与技术思辨,亦为投资机构洞察行业机遇开启前瞻视野。

IWAPS是一个开放的学术交流平台,来这里聆听世界的学术声音,发现技术发展的瓶颈,共筑光刻技术创新未来。让我们相约金秋,共绘蓝图!

IWAPS 2026计划于

2026年9月10-11日深圳国际会展中心举行

请于9月9日报到

欢迎各位学术和产业界的朋友莅临指导,积极投稿演讲!

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报名参会方式

请扫描下方二维码,或点击报名链接进行报名、缴费。报名注册成功后您将收到核销码,该码为会议报道核销的有效凭证,请妥善保管。如有问题,可邮件咨询:iwaps@ime.ac.cn,或是电话咨询:(025)5887 7297。

特别注意,IWAPS 2026与往届会议相比,举办时间提前一月有余,请参会人员尽快进行报名注册!

报名链接:http://p0u.cn/f/r2asez

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会议日程

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特邀报告人

本次会议特别邀请到来自国内外高校、科研院所和知名企业的专家与学者进行报告,更多详情请移步官网www.iwaps.org查看会议日程。

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IWAPS 2025 深圳

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