
当“造更大的芯片”遇到物理极限,英特尔选择把多颗芯片像拼乐高一样“拼”在一起,拼出一颗240毫米见方的巨型芯片,比一块标准披萨还要大上一圈。
近日,英特尔在新墨西哥州里奥兰乔的Fab 9工厂里,悄然完成了一次关键的工艺突破。困扰行业多年的超大型芯片封装“气泡”难题被攻克。这意味着,AI芯片的算力天花板,又被向上推开了一截。
目前,英特尔已将芯片封装尺寸拓展至行业标准的8倍,实现了对“光罩极限”的跨越式突破。更激进的技术路线图已经敲定,预计到2028年,这一封装尺寸将提升至光刻掩模尺寸的12倍以上,大幅甩开当前行业主流水平。
此次落地的超大尺寸封装规格达到240毫米×240毫米,对应光罩尺寸倍数高达24倍。在整个芯片封装领域,除了顶尖面板级封装技术之外,这一尺寸规模已然登顶行业天花板,展现出了极强的技术领先性。
事实上,英特尔的先进封装迭代节奏一直在持续提速。据官方技术规划,企业正稳步推进多轮技术升级,常态化实现7倍以上光罩尺寸的封装量产能力,短期核心目标就是站稳12倍光罩尺寸的技术梯队。
不止于此,英特尔还预留了更大的技术升级空间。随着面板级封装技术的深度落地,未来芯片封装尺寸有望突破50倍光罩尺寸,彻底颠覆传统芯片的集成形态。
可能很多人会感到疑惑,疯狂做大芯片封装尺寸,到底有什么实际价值?
简单来说,超大尺寸封装的核心优势在于极致集成化。它可以将计算芯片、高带宽内存、各类I/O组件高度整合在单一封装平台中,无需重构系统架构,就能大幅提升芯片的计算密度、传输带宽与能效表现。
这对于当下爆发式增长的AI大模型、超算中心、高端服务器场景至关重要,超大封装不仅可以把CPU、GPU、HBM存储、IO接口、高速互连裸片高密度集成在同一封装体内,还能够完美适配海量数据、高并发运算的硬核需求,是下一代高性能芯片的核心底层支撑。
然而,超大尺寸封装并非英特尔的独角戏,AMD和台积电也同样在加码超大尺寸CoWoS、面板级封装布局。其中,台积电的CoWoS-L产能已被英伟达、AMD等客户预订至2027年。而英特尔此番明确可落地的尺寸倍数与量产时间节点,进一步拉高了高端算力芯片封装技术的竞争门槛。
如今,在制程工艺逼近物理极限的背景下,先进封装已经成为芯片性能升级的核心突破口。英特尔此次持续突破光罩极限,不仅夯实了自身在高端芯片领域的技术壁垒,也为全球芯片产业的创新发展指明了新方向。
从18A制程到14A制程,从8倍光罩到12倍光罩,再到50倍以上的面板级封装,英特尔正在用一条清晰的路线图告诉市场:先进封装,是AI时代的必争之地。未来,随着12倍、50倍光罩尺寸封装技术逐步落地,巨型集成芯片或将成为行业主流,彻底重塑高端计算市场的竞争格局。
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