万通道3D纳米激光直写光刻机，正式上市

日前，杭州玉之泉精密仪器有限公司正式推出“万通道3D纳米激光直写光刻机”，这一全球首发、国际领先的微纳制造利器，标志着我国在高精度高通量光刻装置领域迈上新台阶，更为高端掩膜版、光子芯片及超表面等半导体与微纳制造关键领域，提供了不可或缺的底层技术支撑。

该设备由玉之泉联合浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室共同研发。今年 4 月，浙大极端光学全国重点实验室在浙江大学杭州国际科创中心举行成果发布会，正式对外发布该项技术成果；玉之泉作为该实验室科研成果转化的核心产业化平台，深度参与了技术研发与产业化落地全流程。