尼康能否凭借光刻机，东山再起？

尼康宣布计划降低其光刻设备的价格，引起了广泛关注。该公司计划通过自主生产部分零部件来降低整体成本。将于2026年4月就任公司代表董事、总裁兼首席执行官的大村康弘在接受采访时表示：“我们目前正与美国和亚洲的几家主要半导体制造商就ArF光刻设备的供应进行洽谈，其中一些项目有望最终达成订单。”

该公司计划在2028年前发布一款全新的ArF浸没式光刻平台，该平台将配备新型透镜和晶圆台，并实现与ASML光刻设备的兼容性。这一点至关重要，因为价格固然重要，但晶圆厂工程师在尝试将尼康设备制造的层调整为ASML设备图案化的层时，也会遇到一些问题。

另一点需要注意的是，虽然ASML在极紫外（EUV）光刻设备领域占据主导地位，但ArF浸没式光刻技术属于成熟的深紫外（DUV）技术。然而，即使在3nm工艺节点，许多图案化步骤仍然采用ArF浸没式光刻技术。这意味着，即使在最先进的芯片中，成熟的DUV工艺仍然发挥着重要作用。

虽然ASML在老款DUV光刻设备领域与佳能和尼康直接竞争，但只有ASML和尼康生产ArF光刻设备。然而，这两家公司在扫描仪技术方面有着截然不同的发展路线图。

ArF浸没式扫描仪“NSR-S625E”外观 来源：尼康

尼康会成为“下一个英特尔”吗？

业内人士普遍认为，ASML不会担心尼康的DUV设备销售。真正的挑战在于尼康能否成功研发出自己的EUV设备，因为这将是极其复杂的系统工程领域的一项惊人成就。

一些业内人士称尼康为“下一个英特尔”。英特尔曾押注晶圆代工业务，但最终受益于晶圆厂产能短缺，而台积电则继续主导着晶圆代工领域。尼康降低光刻解决方案价格的举措被认为可能有助于缓解因ASML订单积压而导致的制造设备短缺问题。

对尼康的另一种积极看法是，一家制造商垄断半导体工厂的光刻设备，在竞争日益激烈的半导体行业中被视为一个警示信号。因此，即使尼康落后数年，即使三大晶圆厂——英特尔、三星电子和台积电——都是ASML的股东，光刻市场的竞争仍然至关重要。

尼康战略中的“弱点”是什么？

首先，正如一些市场分析师所指出的，光刻设备的价格与商业规格基本无关。尼康的浸没式扫描仪的价格已经比ASML的同类产品低两位数百分比，但尼康的市场份额仍在萎缩。

这就是尼康致力于开发一款技术上可与ASML扫描仪相媲美的全新浸没式扫描仪平台的原因之一。尼康的下一代扫描仪将配备新型投影镜头，以支持ASML的掩模镜像技术。目前尼康扫描仪的掩模无法与ASML产品通用。

此外，这款新一代扫描仪计划采用新型晶圆台，这将允许对晶圆台硬件进行修改，从而无需晶圆厂使用多种类型的扫描仪。然而，如前所述，这款新型扫描仪计划于2028年发布，因此在此期间，竞争激烈的光刻领域可能会发生各种变化。

其次，还有一些因素会影响厂商的留存。像台积电这样的晶圆厂与ASML有着长期的合作历史，并在将ASML的组件和系统集成到自身制造生态系统方面积累了丰富的技术经验。试想一下，如果虽然有更便宜的设备，但实施成本却翻倍，或者无法达到所需的良率，那又会怎样呢？

最后，正如许多业内人士所指出的，尼康的起伏反映了过去20年日本半导体行业的整体状况。回顾过去，佳能和尼康等日本半导体设备制造商都出现了下滑。尼康能否扭转这种颓势？

随着光刻技术的飞速发展，尼康孤注一掷，希望通过与主要供应商和研究机构的紧密合作重振旗鼓。但它能否改变ASML在光刻行业“赢家通吃”的局面？尤其是在DUV光刻系统竞标中败给ASML之后，后者是无可争议的行业领导者，在全球拥有超过8000套半导体光刻系统的装机量。

然而，尼康需要改变策略。他们看到了ASML最先进的ArF浸没式光刻系统的商机，该系统售价约为8250万美元。此外，每套EUV系统通常都配备多套DUV系统。而且，尼康转向更具竞争力的价格策略，或许能让半导体制造商更有效地与ASML进行谈判。

尼康将自身定位为半导体晶圆厂的“第二供应商”，旨在帮助晶圆厂避免完全依赖ASML。未来，尼康能否通过降低设备价格并提供第二供应商选择来吸引晶圆厂，值得我们拭目以待。