
据业内人士透露,英伟达已于去年第四季度再次上调HBM4供应标准,并传达给三星电子和SK海力士。
作为今年AI内存市场的转折点,英伟达大幅提高HBM4的规格,使得三星电子和SK海力士必须再次修改下一代HBM以满足严苛要求。专家表示,从HBM4开始,逻辑晶圆(Logic Die,即基底晶圆)的重要性正日益凸显,由于这一结构性差异,拥有内部技术的三星电子可能比依赖台积电的SK海力士更具优势。
业内专家普遍认为,目前台积电产能无法满足由英伟达和AI半导体热潮推动的晶圆代工需求,这使得其不仅难以确保HBM逻辑晶圆的产能,也难以进行制程转型投资。这对于依赖台积电进行逻辑晶圆生产和制程的SK海力士来说,无疑是一个弱点。
而三星电子则正通过与旗下晶圆代工部门合作,修改逻辑晶圆设计并加速开发,重点关注热控制和性能提升。
HBM 是一种将多个 DRAM 晶圆垂直堆叠的结构。在 HBM4 中,逻辑晶圆是附着在该堆叠最底部的芯片,承担着仅靠DRAM晶圆难以完成的功能。逻辑晶圆是HBM的 “大脑”,负责处理电力和信号的流量控制,数据传输的时序和路径以及电源管理都取决于逻辑晶圆的性能。
HBM4 最初的标准是数据传输速度为 8-10 Gb/s,但随着英伟达将其改为 11 Gb/s 或更高,逻辑晶圆的重要性日益增长。在如此高的速度范围内,HBM 产生的热量和功率波动可能直接导致数据处理错误,因此控制这些因素的逻辑晶圆规格也必须得到改进。这意味着HBM性能竞赛已从 DRAM 扩展到了逻辑晶圆的设计能力。
一位三星电子的知情人士表示:“提高数据传输速度可以通过部分修改逻辑晶圆的设计和制程来实现,因此我们认为这并不困难。” 他补充道:“达到英伟达建议的每引脚 13 Gbps 水平是可能的,但热控制是关键问题。不过这也不会花太久时间。” 此前,三星电子 DS 部门负责人Jun Young-hyun在新年致辞中也表达了对 HBM4 竞争优势的信心。
而SK海力士或许会在这一过程中面临困难。韩国一所私立大学的教授表示:“随着HBM一代又一代的发展,逻辑晶圆方面开始出现技术差距,而SK海力士在很大程度上依赖台积电提供该技术。从已经难以满足需求的台积电的角度来看,与先进制程相比,逻辑晶圆的设备投资和产线扩充被排在了较低的优先级。”
在通用 DRAM 制程转型方面,与三星电子相比,SK海力士也处于不利地位。特别是,SK海力士 30% 以上的 DRAM 产能位于中国无锡工厂,该工厂与其在韩国的核心基地利川工厂之间的技术差距可能扩大,这引发了担忧。无锡工厂面临每年必须获得美国 “经验证最终用户”(VEU)地位的风险,设备进口也必须符合美国政府设定的标准。若出口许可程序变成了例行公事,那么设备和零部件采购将被推迟,无疑会阻碍中国工厂生产设施向先进制程转型。
韩国评级机构在最近的一份报告中表示:“从长远来看,如果中国工厂的半导体设备引进限制持续存在,那么中国工厂的DRAM和NAND闪存都可能面临‘陈旧化’,那么产能下降或许将成为运营业绩的下行因素。”
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