韩国EUV，想要自立

三星电子正加速与韩国本土合作伙伴S&S Tech合作，在韩国实现极紫外（EUV）空白掩膜的本地化生产。目标是在2025年下半年通过最终质量认证，这标志着韩国在下一代半导体材料方面实现更大程度自给自足的关键里程碑。

如果成功，S&S Tech将成为第二家实现核心EUV材料本地化的韩国公司，此前东进世美肯（Dongjin Semichem）已在EUV光刻胶开发方面取得突破。

三星推动EUV掩膜本地供应

据韩国媒体报道，三星已开始在实际生产条件下测试来自韩国公司S&S Tech的极紫外（EUV）空白掩膜样品。该公司旨在到2025年底全面实现其EUV空白掩膜的本地化生产。

三星目前严重依赖日本Hoya的EUV空白掩膜，这种依赖性因过去自然灾害引发的供应中断而引发担忧。尽管Hoya已扩大新加坡的产量以缓解瓶颈，但长期供应稳定性仍存疑问。

与一些已积极在韩国建厂的日本光刻胶供应商不同，EUV空白掩膜的供应仍然高度集中且易受冲击。这促使三星的光学部门对本地化采取更积极的立场，既要减少对Hoya的依赖，又要随着时间的推移降低制造成本。

高端EUV空白掩膜每片成本超过1亿韩元（约合7.3万美元）。本地化生产有望帮助三星每年节省数千亿韩元的开支，并显著缩短交货时间。

虽然三星指望S&S Tech达到质量基准，但它也已将日本AGC列为备用供应商，以防出现延误或认证问题。然而，业内人士认为S&S Tech通过评估的可能性仍然很高。

三巨头的光刻技术护城河

EUV光刻技术是半导体行业缩小晶体管尺寸并将更多功率封装到更小芯片中的核心。但以EUV的超短波长执行该过程几乎没有容错空间——微小的缺陷都可能损害整个晶圆。

这个高风险生态系统的中心是ASML，这家荷兰公司在EUV曝光工具上几乎垄断。然而，ASML的机器只是等式的一部分。生产下一代芯片还取决于完美的EUV光掩膜——精心设计的多层玻璃板，将电路图案转移到硅上。

确保这些掩膜符合质量标准需要一套精英级的检测工具。日本Lasertec在EUV掩膜检测领域占据主导地位，而德国Carl Zeiss提供关键的投影光学系统和掩膜审查系统。这些公司与ASML一起，形成了一个紧密交织且基本排他的供应链，支撑着全球EUV基础设施。

ASML系统曝光晶圆后，Lasertec的扫描仪会检测图案中的缺陷。Carl Zeiss随后进行高分辨率诊断，从微观层面检查掩膜。每一步都旨在确保掩膜符合EUV光刻所需的超严格公差，从而巩固了除了这三巨头之外很少有公司能够渗透的技术护城河。

S&S Tech，商业化临近

2024年12月，S&S Tech向日本Lasertec订购了价值417亿韩元（约合3050万美元）的EUV掩膜检测设备。该设备计划于2025年10月运抵其位于龙仁的新工厂。据报道，在国际订单积压的情况下，三星在帮助S&S Tech获得该订单方面发挥了作用。

据DS投资证券预测，S&S Tech有望在2026年初开始从EUV空白掩膜中产生收入。成功的产能爬坡有望显著提升该公司的估值。

该公司在核心深紫外（DUV）掩膜业务方面也实现了强劲增长。随着中国芯片制造商扩大产能，来自中国大陆客户的订单激增，推动季度销售额创下历史新高。

S&S Tech 2025年营收预计将达到2200亿韩元，同比增长30%。分析师认为，如果DUV业务的势头持续，加上EUV商业化的进展，该公司有望在未来几年内发展成年营收5000亿韩元的业务。

ESOL，韩国的另一个希望

韩国半导体极紫外（EUV）设备公司ESOL近日宣布成功完成740亿韩元（约合5410万美元）的B轮融资。行业专家认为，这笔投资不仅是资本注入，更是韩国正加速通过EUV核心工艺领域的技术本地化实现后续产品商业化的重要信号。

据报道，ESOL计划利用这笔资金扩建位于东滩的晶圆厂，并推动光学元件的本地化。目标是内部生产镜面光学元件等关键部件，而不仅仅是组装，从而实现供应链内部化。

作为全球第四家能够独立开发EUV光源的公司，加上其内部制造关键部件的能力，ESOL有望成为韩国领先的EUV企业。其创始团队包括首席执行官金炳国（Byung-Gook Kim），拥有20多年三星电子半导体研究所的经验，被认为是韩国顶级的曝光专家之一；首席技术官李东根（Dong-Gun Lee），一位EUV专家；以及来自ASML、KLA和浦项科技大学的半导体设备专业人士。

ESOL正积极瞄准本地化和供应链多元化以加速进入市场。其商业化的光掩膜检测设备“SREM”在光掩膜制造过程中进行最终检测，旨在挑战此前由Zeiss垄断的领域。