近日,邑文科技完成首台 12 英寸 CCP(电容耦合等离子)刻蚀机交付。CCP 刻蚀机是半导体制造核心设备,此次交付是国产半导体设备在高端领域的具体成果体现。
邑文科技已在半导体设备制造领域发展多年。此次交付的 12 英寸 CCP 刻蚀机,经长时间研发与测试,可满足先进半导体工艺需求。设备交付后,将应用于国内半导体制造业生产环节,成为关键生产装备。
在芯片制造流程中,半导体刻蚀是关键环节,需通过精确控制刻蚀工艺,在晶圆上制造纳米级电路结构。随着半导体技术发展,行业对刻蚀设备的精度、效率和稳定性要求持续提高。邑文科技的 12 英寸 CCP 刻蚀机采用自主研发核心技术,可实现对多种材料的高精度刻蚀。
近年来,国产半导体设备行业技术突破不断。此次邑文科技 12 英寸 CCP 刻蚀机的交付,是行业发展进程中的一项成果。据了解,该成果得益于企业持续投入研发资金、引进专业人才,以及与国内科研机构的合作。
交付完成后,邑文科技表示后续将继续推进半导体设备研发工作,计划对现有产品性能与质量进行优化,并探索新的设备研发方向。随着更多国产半导体设备技术落地应用,我国半导体产业供应链的完整性和自主性将进一步提升。
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