未来技术Chiplet、3D IC,面临哪些挑战?

来源:半导纵横发布时间:2025-05-29 16:49
3D IC
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OSAT、代工厂和 EDA 工具供应商都将其视为功率和性能的下一个重大突破。

近日,semiengineering与Ansys院士Bill Mullen、西门子 EDA 产品管理高级总监 John Ferguson、是德科技新市场与战略计划高级总监 Chris Mueth、Cadence高级工程事业部总监 Albert Zeng 以及新思科技高级总监兼 AI 产品管理负责人 Anand Thiruvengadam 就Chiplet 以及向3D-IC 转型所面临的挑战进行了探讨。以下是 ESD Alliance 2025 大会现场观众参与讨论的摘录。

领先的芯片制造商在二维微缩方面的选择已经所剩无几。我们开始在超大规模数据中心内看到多芯片组件和芯片集,而且这种情况还将继续下去。现在的挑战是如何带领半导体生态系统的其他部分跟上这一步伐。

该如何实现这一目标呢?

Mueth:标准在这里变得非常重要。集成电路设计有一套方法论,而且在过去的几十年里,我们这个行业已经变得非常高效。我们有IP提供商和标准,可以轻松处理层级结构。我们拥有多家公司,因此你不必自己开发所有东西。此外,还有“芯片经济”(chiplet economy)的概念,即不再由Arm提供用于SoC的内核,而是一些供应商提供芯片,其他供应商再将其集成到3D-IC系统中。这其中蕴含着很多机遇,但也存在许多新的挑战。我们将拭目以待,随着标准的制定和公司间合作的推进,这种情况将如何发展。

Ferguson:在性能和集成度是驱动因素的领域,我们已经做到了这一点。但这些必须与成本进行权衡,因为芯片并不便宜。在高数据速率、高带宽,或者需要高度集成的组件的情况下,芯片很有意义。这种情况正在发生。但我们需要更多这样的用例。那么,如何才能实现它呢?目前,业界的瓶颈在于如何整合工艺和封装技术来实现这一点,以及如何测试这些芯片。这些芯片极其复杂,测试难度极大,因为你无法探测芯片内部的所有细节。因此,我们需要为此开发新的方法。芯片通常都是定制产品。但如果你遵循标准——例如,测试行业也遵循标准。你可以分担这类技术所需的费用和设备负担。

业内讨论 Chiplet 已经很久了。它们仍然不太容易整合,即使是那些正在自主研发 Chiplet 的公司,对吗?

Ferguson:没错,这正是问题的关键所在。如何将这些分散的芯片组装在一起,确保它们可靠运行,良率合理,并且还能达到预期目标?这远不如我们早已熟知并习惯的旧式二维设计流程那么简单。虽然步骤很多相同,但步骤数量更多,因为你要组装各种不同的芯片和工艺。此外,这还会产生额外的成本。这不像拥有PDK和配套的工艺技术那么简单。你必须从不同的地方获取这些技术,因为它们并非总是来自同一家供应商。你承担着巨大的风险。人们不会立即投入其中。你必须等到找到合适的技术——一种能够盈利,足以抵消风险和成本的技术。

Thiruvengadam:这几乎就是推动生态系统不同部分对人工智能需求的因素。例如,如果你谈论的是芯片集成,就会发现其中存在许多对生产力有重大影响的复杂性。我们看到的是,就盈利能力和弥补这一差距而言,传统的扩展方式与行业需求之间的差距正在不断扩大。这将对生产力和市场产生巨大影响,而这正是人工智能发挥作用的地方。我们的许多客户都面临着生产力挑战,他们需要人工智能驱动的解决方案来弥补生产力差距。

Albert Zeng:在生态系统方面,我们需要堆叠标准。一个巨大的挑战是如何确保所有凸块和信号都对齐。台积电与3Dblox有一个标准,可以最大限度地减少熵值。这是一个很好的方向。设计芯片时,你可以自行签核。但当你将它们组装在一起时,你需要提供一些模型供人们在3D-IC级别进行模拟。你需要能够描述芯片的功率、热效应、翘曲和应力。这是人们组装芯片的必要条件。如果你只提供GDS,你怎么能要求人们组装这么大的系统并进行分析呢?

Mullen:在此基础上,你不能直接把GDS(通用数据结构)交给GPU供应商,因为它通常来自多家供应商。HBM供应商需要将内存芯片的模型交给GPU供应商,但他们需要确保这些芯片能够协同工作。因此,IP保护变得非常重要。我们必须拥有高效的、能够协同工作的多物理模型,并且能够保护生态系统中不同公司的IP。

Mueth:这需要并行工程。如果你的产品设计注重性能,那么你需要将制造和材料科学纳入设计流程,并将其提前到位,这样你才能在热应力、机械应力以及组装方式方面做出权衡。这迫切需要一个能够整合所有这些因素的平台。

虽然标准肯定会有所帮助,但几乎所有使用小芯片的设计,甚至一些先进的封装,都是一次性的。标准如何适应这种情况?

Ferguson:这是挑战的一部分。这个行业最大的标准是电子表格。每个人都必须在某种程度上创建自己的电子表格。我们试图整合一些能够帮助你的平台,尽可能地捕捉和汇总这些信息。但这其中仍然会涉及到一些人工工程。

Mueth:一些共通之处可能在于流程本身。因此,您所针对的应用程序或应用程序系列可能有所不同,但很大程度上仍然是定制的。但是,如果您制定了打包和部署方案,那么这部分内容很可能可以在各个应用程序之间相互借鉴。

几家领先的代工厂提出了有限数量、经过预先测试的先进封装方案的想法,因为他们知道这些组件可以协同工作。这种方案可行吗?

Mullen:我们需要做的远不止这些,而且我们也在朝着这个方向努力。UCIe 和 Bunch of Wires 就是其中之一。此外,还有一些协议标准正在开发中。我相信他们正在尝试制定通用凸块间距或混合键合间距。目前还处于早期阶段,但随着人们推动多供应商芯片集成,这方面的工作将会获得发展。

Ferguson:有些代工厂甚至走得更远。他们会说:“告诉我们你想连接什么,我们会把它们放在什么位置以及如何连接。” 代工厂需要时间来做这些决定。好处是,如果他们搞砸了,责任不在你。但这确实浪费时间,也引发了人们对他们如何做出这些决定的质疑。设计团队是否可以做些什么来提高利润?

这与标准 IP 相比如何?

Albert Zeng:对于IP,有标准的描述方法。它已经在EDA生态系统中存在了相当长一段时间,人们已经用它来进行多次流片。对于Chiplet,挑战之一是你现在需要考虑多物理场效应。这与单片设计中的传统IP方法截然不同。你必须考虑温度梯度对设计的影响。电压引起的翘曲会有什么影响?我们确实需要一个建模标准。许多供应商已经拥有为自己的设计生成模型的工具。我们缺少的是可以被所有工具使用并验证的可互换模型。

Thiruvengadam:说得对。另一个方面是设计集成能力。我们需要一个能够整合不同抽象概念的单一平台解决方案。这是另一个重要的技术要求,无论客户或供应商是谁。您还需要拥有更高层次的视角,以便真正整合不同公司的芯片。可以将其视为一个总体平台。

随着半导体行业进入 Chiplet 领域,我们也开始看到关于 3D-IC 的更严肃的讨论。我们在前沿领域大概已经听到这个话题十年了。OSAT、代工厂和 EDA 工具供应商都将其视为功率和性能的下一个重大突破,也是实现功率和性能数量级提升的唯一途径。但现在你必须处理散热、验证和整体设计流程方面的问题。

如何冷却这些设备?

Mullen:没有单一的解决方案。一个庞大的行业正在研究微流体、液体冷却、两相冷却、浸入式冷却等技术。这些技术都还在研发中。金刚石材料也正在被研究。你需要从这些系统中释放出大量的热量,而这些系统的功率密度可能在很小的面积内达到数千瓦。因此,这其中涉及的元素很多,数据中心也因此发生了变化。为了使这一目标切实可行,需要解决许多不同的方面。

Ferguson:它还包括玻璃、陶瓷等新材料,以及其他保温或散热的方法。

Mueth:这是一个制造材料科学问题,需要整合热界面材料。此外,还可以选择调节电压、时钟频率和操作,以帮助管理热量。但归根结底,这一切都与散热有关,而这并非一个容易解决的问题。

Albert Zeng:要解决散热问题,我们需要从两个方面着手。一是从设计角度。传统上,芯片设计师并不关心散热问题。他们只会设计好芯片,然后交给系统级设计师,希望他们能从封装或散热器的角度解决问题。我去过一家组装H400系统的工厂,看到散热器非常高。这种设计在未来行不通。我们需要在系统设计之初就开始考虑散热问题。“这个布局真的有利于散热吗?”他们需要从一开始就进行这些分析。其次,在系统层面,我们看到了其他解决这个问题的创新方法,包括直接冷却、冷却板和两相浸入式冷却。我去过一家初创公司,他们使用直接冷却技术设计芯片。他们在芯片中放置了许多不同的核心,并根据芯片产生的热量分布图,直接将液体注入那些可能产生热点的区域。这是一种非常创新的方法,将芯片设计、冷却和物理设计结合在一起。

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