Hello，大家好，我们机台来分享下北方华创的氧化类产品设备。

北方华创的氧化类设备主要分三类：立式氧化炉，立式退火炉，立式合金炉。

一.立式氧化炉

• 应用领域：28nm及以上的集成电路、先进封装、功率器件.

• 立式氧化炉（300mm/200mm)是在中高温下通入特定气体（O2/H2/DCE），在硅片表面发生氧化反应，生成二氧化硅薄膜的一种设备。生成的二氧化硅薄膜可以作为集成电路器件前道的缓冲介质层、牺牲氧化层和栅氧化层。

• 适用工艺：干氧氧化、湿氧氧化、DCE氧化、氮氧化硅氧化.

• 随着集成电路制造工艺要求的提高，特征尺寸不断缩小，对高端集成电路工艺处理设备的需求也越来越强烈。

• 相比较传统炉管设备，立式氧化炉优势：高效生产性能，高精度温度控制性能，良好成膜均匀性能，先进颗粒控制技术，完整的工厂自动化接口等。

二.立式退火炉

• 应用领域：8nm及以上的集成电路、先进封装、功率器件.

• 立式退火炉（300mm/200mm)是在中低温条件下，通入惰性气体（N2），消除硅片界面处晶格缺陷和晶格损伤，优化硅片界面质量的一种设备。

• 适用工艺：高，中，低温退火.

• 硅片界面处存在的电荷堆积会影响到产品的电学特性与良率。通过退火工艺，能够良好的实现改善晶格结构的工艺目的。

• THEORIS设备提供高精度的温度控制算法、严格的金属控制指标以及稳定的传输控制系统等解决方案。

三.立式合金炉

• 应用领域：28nm及以上的集成电路、先进封装、功率器件.

• 立式合金炉（300mm/200mm)是在低温条件下，通入惰性或还原性气体(N2/H2)，降低硅片表面接触电阻，增强附着力。

• 通过合金工艺，可以使接触孔中形成理想的低电阻欧姆接触，并增强金属与二氧化硅之间的附着力。

• THEORIS设备提供高精度的温度控制算法、严格的L/A氧含量控制指标以及独立的工艺系统，兼顾了工艺目标的实现与生产可靠性的保障。

支持国产，我们不遗余力！

大家有什么意见或建议，欢迎留言或私信，小编也在一边学习一边成长

北方华创的氧化类产品设备介绍