Hello,大家好，今天我们来介绍下国产设备（ALD）的龙头企业--江苏微导纳米科技股份有限公司（以下简称"微导纳米"）。

微导纳米成立于2015年12月，是国内ALD设备龙头企业，拥有以ALD技术为核心、CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，在光伏、半导体领域和柔性电子领域等都得到广泛应用。根据公司公告，微导纳米ALD产品已连续多年在营收规模、订单总量和市场占有率方面位居国内同类企业第一，且公司是国内首家成功将量产型High-kALD应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，技术优势明显。

在光伏设备领域，公司突破ALD沉积速度慢的桎梏，全球首创将ALD技术规模化应用于光伏领域，在PERC、TOPCon、xBC、钙钛矿领域均实现出货；

在半导体领域，公司是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，产品可应用于逻辑、存储、化合物半导体、先进显示等领域；

在柔性电子领域，自主研发的卷对卷柔性电子设备已实现产业化应用。

微导纳米发展历程

微导纳米的产品主要包括半导体设备、光伏设备和柔性电子设备三大类。

半导体设备：公司半导体ALD设备可应用于逻辑、存储、化合物半导体、新型显示等领域。凤凰（P）系列原子层沉积镀膜系统HfO2 工艺已在28nm量产线实现产业化应用，并取得客户重复订单。ALD设备沉积的HfO2、ZrO2、La2O3以及互相掺杂沉积工艺可用于新型存储器（如铁电存储FeRAM）芯片的电容介质层，沉积的Al2O3、TiN、AlN可用于化合物半导体、量子器件的超导材料导电层等，上述应用均已完成客户的试样测试并签署订单。

光伏设备：公司光伏设备产品包括ALD、PECVD、PEALD二合一设备和扩散炉系统，可应用于新型高效电池制造，并可提供TOPCon整线解决方案。

夸父（KF）ALD系列主要用于氧化铝薄膜的沉积（PERC背面和TOPCon正面均需沉积氧化铝薄膜）；

夸父（KF）PECVD系列主要用于氮化硅薄膜的沉积（PERC和TOPCon 减反层）；

祝融（ZR）PEALD系列集成了PEALD和PECVD技术，同一台设备可用于氧化铝、氮化硅镀膜以及TOPCon电池隧穿层、掺杂多晶硅薄膜沉积；
羲和（XH）系统可用于TOPCon中磷扩、硼扩、氧化和退火工艺。

柔性电子设备：FlexGuard（FG）系列卷对卷原子层沉积镀膜系统，主要在OLED等先进显示技术的柔性电子材料上进行真空镀膜。公司ALD设备可实现在大幅宽材料表面沉积高性能阻水阻氧层，有效保护OLED器件性能和寿命。该设备已通过客户验证并获得客户重复订单。

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半导体国产设备（ALD）替代龙头企业--微导纳米