Hello,大家好，今天跟大家分享下半导体制造中的主要材料--超净高纯试剂。

超净高纯试剂：又叫高纯湿电子化学品，指的是其纯度成分>99.99%，杂质离子的微粒数符合要求的化学品。这是半导体制造中非常常见且重要的材料，主要用于芯片的清洗、蚀刻等工艺。

常见的有：酸、碱、蚀刻剂和有机溶剂等。

高纯湿电子化学品分为“通用性湿电子化学品”和“功能性湿电子化学品”两大类。

超净高纯试剂的应用领域

集成电路领域
中半导体制造对于超净高纯试剂质量要求最高。使用较多的超净高纯试剂包括硫酸、双氧水等。半导体中分立器件对超净高纯试剂等级要求相对较低，基本集中在G2等级。半导体中的集成电路对超净高纯试剂的纯度要求最高，中低端领域（8英寸及以下Wafer工艺）要求达到G3、G4 水平，部分高端领域（大硅片、12 英寸Wafer工艺）要求达到G5等级（10ppt）。
显示面板领域
超净高纯电子化学品在显示面板领域主要作用于清洗、光刻、显影和蚀刻。一般来说，要制造TFT-LCD需要重复5到7次上述工序。其中LCD面板生产中剥离液、Al蚀刻液用量较多，OLED面板生产中主要使用剥离液、显影液。随着平板显示向高世代发展，对产品的良品率、稳定性、分辨率以及反应时间的要求越来越高，对超净高纯试剂的质量要求也很严格。一般来说要达到G2、G3等级。
太阳能电池领域
太阳能电池制造中对氢氟酸、硝酸、氢氧化钾的需求量较大。硫酸、王水、酸性和碱性过氧化氢溶液常作为清洗剂，硝酸氢氟酸、氢氧化钾等常作为湿法刻蚀中的蚀刻剂，氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、联氨和乙二胺常用于制绒工艺。太阳能电池生产对超净高纯试剂只要求达到G1、G2等级。
SEMI中超净高纯试剂的标准

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半导体FAB中常用的材料之--超净高纯试剂