Wolfspeed发布第五代碳化硅MOSFET技术

来源:半导纵横发布时间:2026-06-10 11:43
碳化硅
技术进展
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在5毫米×5毫米的碳化硅芯片尺寸下,该器件可承载业内顶尖的电流规格。

Wolfspeed宣布推出第五代(Gen 5)碳化硅(SiC)MOSFET技术,面向下一代1200伏、750伏车用及工业应用场景,实现了能效性能的大幅跃升。

第五代SiC MOSFET实现了三大升级。首先是材料团队实现高质量外延工艺,第五代器件不能只追求常规工况下的性能,更要适配极限应用场景。这就要求外延层参数进一步收窄,重点提升整片晶圆范围内的外延掺杂浓度与厚度均匀性。材料团队不仅圆满达成了高质量外延的研发目标,更将器件RDS(ON)的分布偏差控制在 ±18%。

其次是优化单元结构,极致提升有效有源区面积。尽管第五代产品并未采用沟槽或超结架构,但MOSFET 的沟道密度仍得到了提升,六角形单元结构进行多项关键改进,进一步降低器件内阻,助力产品实现更大载流能力。此外,1200V 器件的有源区面积提升 12%,750V 器件提升 6%。有源区面积的优化,对改善导通电阻与耐压能力起到了重要作用。

第三是延续并升级第四代 MOSFET 的软体二极管技术。第四代产品搭载的软体二极管技术,可有效抑制开关过程中的电压尖峰,帮助设计人员解决多项行业难题:降低各类应用场景下的开关损耗,尤其适配汽车电子、数据中心服务器等对低损耗、高可靠性要求严苛的领域;抑制峰值电压,降低系统运行风险;支持更高开关频率,成为分立式器件应用的重要技术基础。

当前,各大汽车整车厂商仍需全力达成电动化目标,而整车成本、安全性能、续航里程以及充电基础设施配套不足等问题,依旧制约着电动汽车的普及。

Wolfspeed表示,第五代技术针对上述痛点进行了全方位优化,并刷新了比导通电阻(RSP)指标。该参数是衡量MOSFET芯片有效面积与能效表现的核心品质因数。依托第五代技术,系统设计人员可打造体积更紧凑的牵引逆变器,提升车辆单次充电续航里程,同时合理优化动力电池配置、降低电池成本。此外,该技术还推动碳化硅器件拓展全新应用场景,可利用固态断路器替代传统机械继电器;同时也为电动汽车充电设施树立了全新能效标准。除汽车领域外,工业电源等场景同样能够充分发挥该代产品优异的开关性能。

Wolfspeed首席商务官Cengiz Balkas博士表示:“第四代技术为客户带来了开关性能的突破性提升。时隔不到两年,我们又推出第五代产品。在5毫米×5毫米的碳化硅芯片尺寸下,该器件可承载业内顶尖的电流规格。”他补充道,这项新技术将助力业界更快打造出更智能、更高能效、更小型化的实用电力电子系统。

第五代技术依托已商用化的成熟平台打造,客户从方案导入到量产落地的路径清晰、风险更低,即便当前人工智能产业带动需求激增,也不会影响车用产品的量产进度。这是Wolfspeed第二款在纽约州莫霍克谷200毫米晶圆厂完成设计、制造与认证的MOSFET技术平台。新品导入、样品交付及客户验证工作,均将采用200毫米量产晶圆开展,且量产阶段无需新增生产设备。

功率器件与封装研发副总裁Adam Barkley博士表示:“我们的平面MOSFET技术仍具备持续创新空间。第五代产品沿用客户熟悉的设备与工艺打造,为下一代项目提供了低风险的升级方案。对于研发周期紧张的客户而言,这意味着产品验证、资质认证周期缩短,上市节奏加快,同时性能表现稳定可靠。”

目前,QEM50120-025D10与QEM50075-025D10两款样品已经定向向部分客户提供。随着市场需求与客户需求逐步落地,750伏至1200伏全系列新品将在2026年至2027年初陆续推出。

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