
三星电子今年将以平泽P4工厂为核心,启动DRAM新增产能提升近20%的相关工作。核心举措是大幅增产HBM4的核心原材料1c nm DRAM Die。业内分析认为,一方面公司HBM4技术竞争力正快速回升,另一方面AI客户对DRAM的需求持续增长,三星因此规划了积极的设备投资。
行业消息透露,三星电子已制定战略,将在其最新半导体工厂京畿道平泽 “P4工厂”,新建一条DRAM生产线,目标在明年第一季度前实现月产10万至12万片晶圆的产能。该产线将部署用于生产HBM4的 1c nm DRAM产线。
HBM是将多颗DRAM芯片垂直堆叠而成的内存产品。相较单颗 DRAM,其传输速度更快、存储容量更大,因此在需要复杂运算的人工智能领域备受青睐。HBM4是三星电子从今年起,将向英伟达、AMD 等 AI 芯片企业供货的最新一代HBM产品。三星将采用当前最先进的 1c nm DRAM,通过12颗垂直堆叠的方式制造HBM4。
业内认为,三星为HBM4新建 1c nm DRAM产线是一笔大规模投资。目前三星DRAM晶圆总产能为月产 66 万片,若新增最高 12 万片的产能,其DRAM总产能将在一年内提升最高 18%。
HBM4 专用 1c nm DRAM的产能占比也将同步提升。据悉,截至去年,三星已建成月产6万至7万片1c nm DRAM晶圆的产线。若按计划完成新产线建设,HBM4专用1c nm DRAM月产能将逼近20万片,这也意味着HBM4专用DRAM将占据三星总产能的25%。
此外,负责制造HBM4基底裸片的平泽晶圆代工S5工厂,其 4 纳米制程产线也已进入满负荷运转状态。平泽新建的 P5工厂外部施工正紧锣密鼓推进,力争赶在最快明年第一季度的半导体生产设备进厂节点前完工。三星同时在考虑扩大面向手机、家电等领域的通用型 1c nm DRAM产能,计划以现有非 1c 级制程的华城17产线为核心,大规模改造转产1c级DRAM。
三星今年大幅强化 1c nm DRAM产能,源于其对自身最新技术的信心,以及 AI 市场扩张催生的内存 “超级周期” 到来。近期三星对技术的信心显著回升。截至去年,公司在HBM4 1c nm DRAM制造环节一度遭遇较大技术困境。2024年,新任三星电子半导体(DS)部门负责人的全永铉副会长决定对 1c nm DRAM进行重新设计,该战略落地见效后,从去年上半年起,相关技术能力快速恢复。尤其在HBM4领域,三星上月率先超越竞争对手,通过 AI 芯片龙头企业英伟达的质量认证测试,即将进入批量出货阶段。面对HBM4产能亟需快速扩容的需求,三星选择以最新的P4工厂为核心,启动新产线建设。
同时,为应对AI热潮引发的内存供应紧张局面,三星也亟需扩大产能。市场调研机构Counterpoint Research数据显示,今年一季度,服务器用64GB DDR5 DRAM价格较去年四季度大幅上涨98%。业内人士预测:“三星电子拥有充裕的产能与资本实力,能够相对灵活地应对激增的需求。在技术回暖与供应缺口叠加的背景下,三星今年将推行相当激进的设备投资策略。”
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